用途：機(jī)械密封件、光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌等高精度平面零件的平面檢測(cè)。平面平晶規(guī)格φ60*20mm φ80*20mm φ100*25mmφ150mm以上屬非標(biāo)立品需訂做平面平晶產(chǎn)品特點(diǎn)*平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。*平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高精度的平面零件，例如，平面光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶特別適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。
用途：機(jī)械密封件、光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌等高精度平面零件的平面檢測(cè)。功率：20W 電源：220V/50Hz 專用燈源照射平面平晶規(guī)格φ60*20mm φ80*20mm φ100*25mmφ150mm以上屬非標(biāo)立品需訂做平面平晶產(chǎn)品特點(diǎn)*平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。*平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高精度的平面零件，例如，平面光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶特別適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。技術(shù)參數(shù):
用途：機(jī)械密封件、光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌等高精度平面零件的平面檢測(cè)。平面平晶規(guī)格φ60*20mm φ80*20mm φ100*25mmφ150mm以上屬非標(biāo)立品需訂做平面平晶產(chǎn)品特點(diǎn)*平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。*平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高精度的平面零件，例如，平面光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶特別適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。
用途：機(jī)械密封件、光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌等高精度平面零件的平面檢測(cè)。功率：20W 電源：220V/50Hz 專用燈源照射平面平晶規(guī)格φ60*20mm φ80*20mm φ100*25mmφ150mm以上屬非標(biāo)立品需訂做平面平晶產(chǎn)品特點(diǎn)*平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。*平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高精度的平面零件，例如，平面光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶特別適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。技術(shù)參數(shù):
用途：機(jī)械密封件、光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌等高精度平面零件的平面檢測(cè)。平面平晶規(guī)格φ60*20mm φ80*20mm φ100*25mmφ150mm以上屬非標(biāo)立品需訂做平面平晶產(chǎn)品特點(diǎn)*平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。*平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高精度的平面零件，例如，平面光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶特別適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。
