KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 BCx 薄膜

蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶（純度均為99.9%）,在 CrMoAl 齒輪鋼和 Si（100）表面沉積 BCx 薄膜

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):

試驗(yàn)結(jié)論:

相同的沉積時(shí)間內(nèi), BCx 薄膜的厚度隨石墨靶電流的增加逐漸增大, 硬度、彈性模量逐漸降低,微觀形貌的柱狀結(jié)構(gòu)特征越來(lái)越明顯;增加石墨靶電流可以提高BCx薄膜的摩擦學(xué)性能, 當(dāng)石墨靶電流為 2.4A 時(shí), BCx 薄膜的摩擦因數(shù)穩(wěn)定在 0.2 左右, 且具有較佳的耐磨性能。

KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.

KRI 離子源是領(lǐng)域公認(rèn), 已獲得許多專(zhuān)利. KRI 離子源已應(yīng)用于許多已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的過(guò)程中.

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的代理商.

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