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本鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。
該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等,深受廣大用戶好評。
技術(shù)參數(shù):
1、真空腔室:ф300×H360mm, 304 優(yōu)質(zhì)不銹鋼真空腔室/(不包含真空機(jī)組,
480x320x460mm寬X高X深)
2、真空系統(tǒng):復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真閥門高真空系統(tǒng),數(shù)顯復(fù)合真空計(jì);
3、真空極限:(空載)8.0×10-5Pa;
4、漏率:≤0.8Pa/h;
5、抽速:(空載)從大氣抽至 5.0×10-3Pa≤13min;
6、膜厚不均勻性:≤±5%(基片臺Φ80mm 范圍內(nèi));
7、其他:磁控濺射和蒸發(fā)鍍一體機(jī)等。