本鍍膜機主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。

該設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。該系列設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等，深受廣大用戶好評。

技術參數：

1、真空腔室：ф300×H360mm， 304 優質不銹鋼真空腔室/（不包含真空機組， 

             480x320x460mm寬X高X深）

2、真空系統：復合分子泵+直聯旋片泵+高真閥門高真空系統，數顯復合真空計；

3、真空極限：（空載）8.0×10^-5Pa；

4、漏率：≤0.8Pa/h；

5、抽速：（空載）從大氣抽至 5.0×10^-3Pa≤13min；

6、膜厚不均勻性：≤±5%（基片臺Φ80mm 范圍內）；

7、其他：磁控濺射和蒸發鍍一體機等。