Neutronix-Quintel光刻機，NXQ4006紫外掩膜曝光，MaskAlignment

1.光刻機主機

1.1具有穩(wěn)定可靠的芯片厚度補償系統(tǒng)；

1.2 PLC控制系統(tǒng)，可進(jìn)行工藝參數(shù)的編程，操作便捷；

▲1.3具有自動執(zhí)行楔形誤差補償，并在找平后自動定位功能；

1.4采用LED穿透物鏡照明技術(shù)，具有超強對準(zhǔn)亮度；

1.5配套集成式防震臺；

-LED紫外線燈罩?

-曝光波長365405435nm

-LED壽命長，無需維護(hù)

-恒定強度，無需每天調(diào)整

-即時開啟-不使用時無需開啟

-低功耗

-閉環(huán)液體冷卻系統(tǒng)

-具有MS Windows界面的基于PC的控件

-基于Windows 10的菜單驅(qū)動圖形用戶界面

-配方設(shè)置功率電平

-g、h和i線紫外線強度的獨立控制

-配方設(shè)置從20到100輸出

-365時可編程范圍為6mw-30mw/cm2

-405時可編程范圍為15mw-75mw/cm2