氮化鎵（GaN）是二十世紀九十年代以來常用于發(fā)光二極管的二元III / V族直接帶隙半導體。該化合物是一種非常堅硬的材料，具有纖鋅礦晶體結構。其3.4 eV的寬帶隙為光電，高功率和高頻器件的應用提供了特殊的性能。可供氫化物氣相外延（HVPE）技術生長導電型與半絕緣型氮化鎵單晶襯底晶片，晶片參數(shù)大致如下：
1. 氮化鎵晶片規(guī)格參數(shù)

2. 氮化鎵襯底的應用場景
1）GaN襯底可制備發(fā)光二極管（LED）與紫外激光二極管（LD）；
2）它對電離輻射的敏感性很低（與其他III族氮化物一樣），使其成為衛(wèi)星太陽能電池陣列的合適材料。
3）由于設備在輻射環(huán)境中表現(xiàn)出穩(wěn)定性，因此太空應用也可能受益。
4）由于GaN晶體管可以在更高的溫度下工作，并且工作電壓比砷化鎵（GaAs）晶體管高得多，因此它們可以在微波頻率下制造理想的功率放大器。

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