日本Shimadzu島津氮化物真空加壓燒結急速冷卻爐PVSGgr20/20N適用于Si?N?氮化硅、硬質合金、非氧化物陶瓷的燒結。新能源汽車、高鐵、城市軌道交通、5G 基站等設備上大功率控制模塊的散熱基板及汽車、風電等設備上高精度、高轉速陶瓷軸承球的燒結處理。

用途：Si?N?氮化硅基板、Si?N?氮化硅軸承球、 Si?N?氮化硅結構件

日本Shimadzu島津氮化物真空加壓燒結急速冷卻爐PVSGgr20/20N技術規格

有效尺寸(mm)：200*200

處理量(KG)：10

額定溫度(℃)：2200

真空度(Pa)：7x10-1或7x10-3

壓力：0.9MPaG

加熱電力：30KW

加熱電力：N2,Ar

島津作為日本真空爐專業生產代表廠家，在硬質合金，合金陶瓷，金屬注射成形的生產和研究開發大部分的市場份額。經過數十年培育出的技術和成熟的生產工藝，系列化生產的真空爐，可以為用戶提供高質量的產品和服務。在中國，韓國等海外市場，也已擁有眾多的銷售業績，并得到客戶的青睞。

日本Shimadzu島津氮化物真空加壓燒結急速冷卻爐PVSGgr20/20N由于1MPa的低壓燒結，可以在一定程度上提高產品的抗彎強度和明顯減少偏差，因此部分替代6MPa的低壓爐使用，從而降低生產成本。