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| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
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| 材質(zhì) | 鑄鐵 | ||
| 尺寸 | 1600mm*650mm*1400mmcm | ||
| 底座 | 帶輪子 | ||
| 桿長(zhǎng) | 230 | ||
| 產(chǎn)品規(guī)格 | BTF-1200C-S-R-PECVDmm | ||
| 控溫方式 | 7"液晶觸屏與工控儀表雙重控溫，模糊PI | ||
| 類別 | 回轉(zhuǎn)爐 | ||
| 重量 | 20KGkg | ||
| 溫度范圍 | 1200℃°C | ||
| 是否支持加工定制 | 是 | ||
| 是否進(jìn)口 | 國(guó)產(chǎn) | ||
| 通信接口 | USB | ||
| 供氣系統(tǒng) | 標(biāo)配三路質(zhì)量流量計(jì)（50/100/200 | ||
| 供電電源 | 220V50Hz | ||
| 控溫精度 | ±1℃ | ||
| 品牌 | 貝意克 | ||
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迷你智能型等離子體可回轉(zhuǎn)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
1.該設(shè)備爐管可360度旋轉(zhuǎn)，管內(nèi)壁有石英擋片幫助粉料翻轉(zhuǎn)有助于燒結(jié)得更均勻；
2.該款設(shè)備是全自動(dòng)Plasma增強(qiáng)CVD系統(tǒng)（PECVD）,系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)滑動(dòng)溫區(qū)，連續(xù)可控溫度以及Plasma強(qiáng)度等，配備真空系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)低壓條件下的實(shí)驗(yàn)，針對(duì)低溫石墨烯、碳納米管生長(zhǎng)等。PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象。
