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| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
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| 品牌 | 小袁 | ||
| 產(chǎn)品特性 | 石英玻璃 | ||
| 是否進(jìn)口 | 否 | ||
| 產(chǎn)地 | 東莞 | ||
| 加工定制 | 否 | ||
| 尺寸 | 152.4*152.4 | ||
| 可售賣(mài)地 | 全國(guó) | ||
| 用途 | 用于半導(dǎo)體 | ||
| 材質(zhì) | 石英 | ||
| 型號(hào) | JGS1 | ||
工藝介紹：掩膜版(Photomask)，又稱(chēng)光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。掩膜版是芯片制造過(guò)程中的圖形“底片”，用于轉(zhuǎn)移高精密電路設(shè)計(jì)，承載了圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息。掩模版用于芯片的批量生產(chǎn)，是下游生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，是芯片精度和質(zhì)量的決定因素之一（銷(xiāo)售技術(shù)楊經(jīng)理18103045976）。
工藝能力：
電子束光刻加工(EBL):最小線(xiàn)寬50nm,精度可達(dá)10。
步進(jìn)式光刻加工:stepper i7/i10/i12，最小線(xiàn)寬350nm，曝光誤差±0.1um。接觸、接近式光刻加工:MA6/BA6光刻機(jī)，最小線(xiàn)寬1um，曝光誤差±0.5um紫外光刻加工、無(wú)掩模光刻加工、雙面光刻加工，對(duì)準(zhǔn)套刻尺寸:8’、6’、4’、2’以及不規(guī)則小片
應(yīng)用材料：玻璃 ?石英 ?陶瓷 ?菲林
技術(shù)應(yīng)用：光刻技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、光刻版加工、集成電路制造過(guò)程中。
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光掩膜石英玻璃基板的制造工藝概述
日本JGSⅠ石英玻璃材料 半體導(dǎo)掩膜板
技術(shù)應(yīng)用：光刻技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、光刻版加工、集成電路制造過(guò)程中。
銷(xiāo)售技術(shù)楊經(jīng)理：181-030-45976
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尺寸規(guī)格
6寸6.35厚
6寸3.81厚
300*350*5t
390*610*6t
700*800*8t
700*750*8t
800*920*8t
800*920*10t
800*960*8t
800*960*8t精拋
830*960*8t
850*1000*10t
1400*850*10t
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