雙面拋光機原理圖

銷售技術(shù)：楊經(jīng)理 18103045976

1、雙面拋光機工作原理:本研磨機為準(zhǔn)確研磨設(shè)備,被研磨產(chǎn)品放置于研磨盤上,研磨盤逆時鐘旋轉(zhuǎn),工件自己轉(zhuǎn)動,用重力加壓的方式對工件施壓,工件與研磨盤作相對旋轉(zhuǎn)磨擦,來達(dá)到研磨目的.修盤機采用油壓懸浮導(dǎo)軌,配合金剛石修面刀對研磨盤進(jìn)行準(zhǔn)確修整,使研磨盤得到準(zhǔn)確的平面度.鏡面拋光機的拋光步驟將被拋光工件用夾具固定在鏡面拋光機上,開動電機,在控制面板設(shè)定程序步驟和工件所需要達(dá)到的精度,磨盤的轉(zhuǎn)速等等開啟拋光液裝置,使得液體順利流出,設(shè)定時間即可.時間到了后,程序會自動關(guān)閉,關(guān)掉電源.相關(guān)概念工件工件，即機械加工中的加工對象。它可以是單個零件﹐也可以是固定在一起的幾個零件的組合體，也叫制件、作件、課件、五金件等。拋光
2、本文研制的雙面拋光機在總結(jié)了國內(nèi)外雙面拋光機設(shè)備的基礎(chǔ)上,根據(jù)國內(nèi)的加工技術(shù)水平,對機械結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計和研究,實現(xiàn)表面粗糙度小于1nm的超平滑表面加工生產(chǎn)的目標(biāo),達(dá)到國外同類產(chǎn)品的技術(shù)精度要求。
3、圖1雙面拋光機拋光過程的原理2雙面研磨拋光機改進(jìn)設(shè)計傳統(tǒng)拋光機的不足：傳統(tǒng)的研磨拋光機采用一電機，兩電機驅(qū)動，這類型的拋光機可適用的調(diào)速范圍存在一定局限性，配比繁瑣，無法滿足不同的工藝需要。傳統(tǒng)的雙面研磨拋光設(shè)備，齒圈及太陽輪均采用整體式齒輪，隨著設(shè)備規(guī)格的加大，零件的尺寸也在加大，齒圈的加工難度加大；同時在使用過程中，會出現(xiàn)齒的磨損，更換則需要整體更換，用戶的使用成本加大；在拋光過程中，拋光液會在齒輪齒部結(jié)構(gòu)，不易清理。傳統(tǒng)的雙面研磨拋光設(shè)備，對于研磨拋光盤均采用被動式的冷卻方式，通過研磨砂拋光液帶走拋光過程中產(chǎn)生的熱量。對于連續(xù)工作的設(shè)備來說不能起到良好的降溫作用及的溫度控制。而溫度變化會引起拋盤的變形，對工件的平整度會造成嚴(yán)重影響。
4、超精密雙面拋光的運動原理雙面拋光機整個運動機構(gòu)可看成為一個差動式的行星輪系。其結(jié)構(gòu)簡如圖2-2(a>所示。四個伺服電動機通過帶傳動分別帶動四根主軸轉(zhuǎn)動后，中心輪、外齒圈、上拋光盤以及下拋光盤分別以設(shè)定的角速度進(jìn)行轉(zhuǎn)動。
5、VDOMDHTMLtml>.拋光機也稱為研磨機，常常用作機械式研磨、拋光及打蠟。其工作原理是：電動機帶動安裝在拋光機上的海綿或羊毛拋光盤高速旋轉(zhuǎn)，由于拋光盤和拋光劑共同作用并與待拋表面進(jìn)行摩擦，進(jìn)而可達(dá)到去除漆面污染、氧化層、淺痕的目的。

雙面拋光機原理圖解

1、摘要：精密雙面拋光機可對光學(xué)元件的兩個表面同時進(jìn)行拋光,能有效提高元件加工效率。雙面拋光機實現(xiàn)精密加工的關(guān)鍵因素在于拋光盤轉(zhuǎn)速的控制。
2、雙面拋光機是采用雙盤對磨，在砂帶表面形成一層極薄的研磨液膜，從而起到提高砂帶使用壽命的作用。
3、在化學(xué)成膜與機械去膜的交替過程中，通過化學(xué)與機械的共同作用從工件表面去除極薄的一層材料，最終實現(xiàn)超精密表面加工。兩個過程的快慢綜合和一致性影響著工件的拋光速度和拋光質(zhì)量。拋光速度主要由這兩個過程中速度較慢的過程所控制。

雙面拋光機

1、本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了DPM型雙面拋光機(以下簡稱“拋光機”)的產(chǎn)品分類、技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則和標(biāo)志、包裝、運輸、貯存。本標(biāo)準(zhǔn)適用于采用化學(xué)機械拋光方式對半導(dǎo)體級單晶硅片進(jìn)行雙面精密拋光的DPM型雙面拋光機。2規(guī)范性引用標(biāo)準(zhǔn)下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,僅注日期的版本適用于本文件。
2、雙面拋光機本機主要用于硅片、片、陶瓷片、石英晶體及其它半導(dǎo)體材料的雙面高精度研磨或拋光，也適用于其它金屬、非金屬、光學(xué)玻璃、藍(lán)寶石等硬、脆、薄材料的雙面高精度研磨或拋光。產(chǎn)品詳情設(shè)備簡介：本機主要用于硅片、片、陶瓷片、石英晶體及其它半導(dǎo)體材料的雙面高精度研磨或拋光，也適用于其它金屬、非金屬、光學(xué)玻璃、藍(lán)寶石等硬、脆、薄材料的雙面高精度研磨或拋光。設(shè)備特點：機身結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)計，機架采用龍門式結(jié)構(gòu)，剛性好，承壓能力強，能滿足高負(fù)載下高速穩(wěn)定運行。下盤、上盤和太陽輪分別由電機單獨驅(qū)動，電機均采用變頻電機且使用變頻調(diào)速器控制，能在有效設(shè)置范圍內(nèi)以任意速度工作，實現(xiàn)平穩(wěn)的停止、加速、減速及換向，能有效的防止薄脆工件破碎。
3、UNIPOL-160D雙面研磨拋光機主要用于石英晶片、藍(lán)寶石、陶瓷、玻璃、金屬等片狀材料的雙面精密研磨拋光。本機采用渦輪蝸桿減速機為傳動機構(gòu)，通過齒輪組實現(xiàn)上、中、下三軸不同速度、不同方向的轉(zhuǎn)動，使上、下研磨拋光盤和中間太陽輪產(chǎn)生速度差以及相對運動，而樣件置于太陽輪驅(qū)動的載樣行星齒輪內(nèi)孔中，從而對其進(jìn)行雙面研磨拋光。UNIPOL-160D雙面研磨拋光機可以選擇用研磨盤加磨料研磨樣品，也可以選擇拋光盤貼砂紙的方式研磨樣品。拋光盤貼砂紙是將砂紙貼在研拋底片上然后將研拋底片吸附在拋光盤上在進(jìn)行研磨拋光。可以同時對多個樣品一起進(jìn)行研磨，研磨拋光的效率高，適合大量試樣的研磨或工廠的小批量生產(chǎn)。免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容（包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等），僅供參考。
4、雙面拋光技術(shù)是在單面拋光加工技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，由于它在薄片工件的加工過程中能有效地避免應(yīng)力差與粘結(jié)誤差引起的變形問題。因此與單面拋光加工相比，雙面拋光具有加工效率高，表面變形小，易獲得超光滑加工表面的優(yōu)點。一般的超精密雙面拋光系統(tǒng)是由承載工件和下拋光盤的工作臺、施加載荷的上拋光盤、帶動工件旋轉(zhuǎn)運動的行星輪以及供給拋光液的裝置四大構(gòu)件組成，系統(tǒng)構(gòu)造如圖所示。在雙面拋光的過程中，由于拋光液與拋光墊之間的物理運動，導(dǎo)致拋光液內(nèi)部的化學(xué)溶液以及磨粒于工件產(chǎn)生化學(xué)變化，同時在上拋光盤對工件的旋轉(zhuǎn)壓力的作用下，使工件表面產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)物得到切除。
5、高精密雙面研磨拋光機.產(chǎn)品簡介:高精密雙面研磨拋光機廣泛應(yīng)用于電子、微電子、光學(xué)、汽車、航空、航天 液壓、機械和精密鐘表等雙面加工領(lǐng)域。

光學(xué)雙面拋光機

1、本機器主要用于硅片、片、陶瓷片、石英晶體及其他半導(dǎo)體材料的雙面高精度研磨或拋光，也適用于其他金屬、非金屬、光學(xué)玻璃、藍(lán)寶石等硬、脆、薄材料的雙面高精度研磨或拋光。

雙面拋光機使用說明書

1、本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了DPM型雙面拋光機（以下簡稱“拋光機”）的產(chǎn)品分類、技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則和標(biāo)志、包裝、運輸、貯存。本標(biāo)準(zhǔn)適用于采用化學(xué)機械拋光方式對半導(dǎo)體級單晶硅片進(jìn)行雙面精密拋光的DPM型雙面拋光機。
2、使用說明書電動拋光機28型雙重絕緣警告為了您的安全請妥善保存該手冊以備將來參考使用之前請仔細(xì)閱讀本手冊規(guī)格生產(chǎn)者保留變更規(guī)格不另行通知之權(quán)利規(guī)格可能因銷往國家之不同而異重量符合EPTA-Procedure01/2003符號以下顯示本工具使用的符號在使用工具之前請確保理解其含義請閱讀使用說明書雙重絕緣佩帶安全眼鏡佩帶耳罩僅用于歐洲國家請勿將電氣設(shè)備與家庭普通廢棄物一同丟棄請務(wù)必遵守歐洲D(zhuǎn)irective2002/96/EC關(guān)于廢棄電子電氣設(shè)備的指令根據(jù)法律法規(guī)執(zhí)行達(dá)到使用壽命的電氣設(shè)備必須分類回收至符合環(huán)境保護(hù)的再循環(huán)機構(gòu)一般安全規(guī)則)