供應蘇州尼康曝光機主機維修

 ALPHA STATION 255 300MCPU現貨nikon 尼康曝光機主機維修

概述
對光刻而言，其最重要的工藝控制項有兩個，其一是條寬控制，其二是對位控制。隨著產品特征尺寸的越來越小，條寬和對位控制的要求也越來越高。目前0.5um的產品，條寬的要求一般是不超過中心值的10%，即條寬在0.5±0.05um之間變化；對位則根據不同的層次有不同的要求，一般而言，在多晶和孔光刻時對位的要求最高，特別是在孔光刻時，由于孔分為有源區和多晶上的孔，對位的要求更高，部分產品多晶上孔的對位偏差甚至要求小于0.14um。
在現在的IC電路制造過程中，一個完整的芯片一般都要經過十幾到二十幾次的光刻，在這么多次光刻中，除了第一次光刻以外，其余層次的光刻在曝光前都要將該層次的圖形與以前層次留下的圖形對準。對位的過程存在于上版和圓片曝光的過程中，其目的是將光刻版上的圖形最大精度的覆蓋到圓片上已存在的圖形上。它包括了以下幾部分：光刻版對位系統、圓片對位系統（又包括LSA、FIA等）。對于NIKON的步進重復曝光機（Step & Repeat）而言，對位其實也就是定位，它實際上不是用圓片上的圖形與掩膜版上的圖形直接對準來對位的，而是彼此獨立的，即，確定掩膜版的位置是一個獨立的過程，確定圓片的位置又是另一個獨立的過程。它的對位原理是，在曝光臺上有一基準標記，可以把它看作是定位用坐標系的原點，所有其它的位置都相對該點來確定的。分別將掩膜版和圓片與該基準標記對準就可確定它們的位置。在確定了兩者的位置后，掩膜版上的圖形轉移到圓片上就是對準的。

 
	

		維修時間 標準時間10個工作日，加急3個工作日，對修復部位保修三個月。 
	

	

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