2SSPQ2-P1.5
GGQ-P干油過濾器適用于公稱壓力為40MPa的干油集中潤滑系統(tǒng)，是一種為保證干油集中潤滑系統(tǒng)工作正常，潤滑點(diǎn)能得到一定純度的潤滑脂而設(shè)置的結(jié)構(gòu)極為簡單的網(wǎng)式過濾裝置，它安裝于潤滑泵（手動、電動、風(fēng)動、液動等）的出油口與系統(tǒng)供油主管之間，用以清除潤滑脂內(nèi)的殘留雜質(zhì)。
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技術(shù)參數(shù)
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型號
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公稱壓力Mpa
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d
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A
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B
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C
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D
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重量kg
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GGQ-P8
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40
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G 1/4
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32
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42
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57
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83
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1.15
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GGQ-P10
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G 3/8
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1.10
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GGQ-P15
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G 1/2
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38
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52
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71
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96
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1.4
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GGQ-P20
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G 3/4
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50
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58
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76
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112
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1.5
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GGQ-P25
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G 1
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1.6
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2SSPQ2-P1.5
DJB-V70型電動加油泵
適用于干油集中潤滑系統(tǒng)中，向電動潤滑泵的貯油器內(nèi)充填潤滑脂。該泵為不帶貯油桶型，直接放在200L的油桶上，可以單獨(dú)操作，與相應(yīng)的電控裝置連接可以實(shí)現(xiàn)電動潤滑系統(tǒng)的自動補(bǔ)脂。該泵為內(nèi)藏式柱塞容積泵，采用蝸輪蝸桿減速傳動，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，輸出壓力高，出口處設(shè)置調(diào)壓安全閥具有過載保護(hù)作用。
動作說明：
由垂直安裝的電機(jī)經(jīng)蝸桿帶動蝸輪回轉(zhuǎn)，在蝸輪端面上裝有偏心軸，通過曲柄連桿帶動柱塞上下往復(fù)運(yùn)動，由活塞內(nèi)部及管帽內(nèi)單向閥的作用完成吸壓油過程，經(jīng)輸油膠管向外輸送。
使用說明：
1、建議按旋向箭頭方向接線旋轉(zhuǎn)。
2、使用的潤滑脂必須干凈、質(zhì)地均勻，在規(guī)定牌號范圍內(nèi)。
3、首次使用前應(yīng)向減速箱內(nèi)注入潤滑油（N220）至規(guī)定油面。
4、加油泵首次啟動后，應(yīng)先打開放氣閥，正常出油后關(guān)閉。
5、不許在桶內(nèi)無油脂的情況下空運(yùn)轉(zhuǎn)。
2SSPQ2-P1.5
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一、概 述
SSPQ-P1.15(VSN-KR)系列雙線分配器適用于分稱壓力為40MPa的干油或稀油雙線式集中潤滑系統(tǒng)中。
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二、技術(shù)參數(shù)
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型 號
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啟動壓力MPa
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出油口數(shù)
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每口每次給油量mL
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損失量mL
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重量
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max
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min
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kg
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2SSPQ-P1.15
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≤1.8
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2
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1.15
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0.35
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0.17
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1.2
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4SSPQ-P1.15
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4
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1.7
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6SSPQ-P1.15
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6
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2.2
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8SSPQ-P1.15
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8
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2.7
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注；1、工作環(huán)境溫度-20～+80℃。 2、適用介質(zhì)為錐入度不小于265（25℃，150g)1/10mm的潤滑脂。
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2SSPQ2-P1.5
SDPQ-L、SSPQ-L系列雙線分配器
適用于公稱壓力為20MPa的雙線式集中潤滑系統(tǒng)作為一種計量給油裝置，它在兩條供油管交替的供油壓力作用下，直接由供油壓力推動活塞給油，完成向各潤滑點(diǎn)定量分配潤滑脂的功能。
SDPQ-L系列單向出油分配器給油口都在底部，分配器活塞正反向動作均從同一個給油口排油，系統(tǒng)每工作一次，各給油口均排油一次。
SSPQ-L系列雙向出油分配器正面和底部均有給油口，分配器活塞正反向動作分別從正面和底部的給油口排出潤滑脂。相對于SDPQ 型分配器給油口成倍增加，正面右位給油口下預(yù)制一，二口合并為一口的螺塞，易改為奇數(shù)出油，使用系統(tǒng)配管簡單。SSPQ-L2、3、4三種系列的分配器，同樣給油口數(shù)的外形安裝尺寸相同，易于型號變更替換方便。
該系列分配器可以從指示桿的動作直接觀察分配器的工作情況，還可通過調(diào)整螺釘在規(guī)定范圍內(nèi)方便地調(diào)整各個給油口的給油量。
2SSPQ2-P1.5
VSG-KR型雙線分配器上、下面均有給油口，分配器活塞正反向動作時分別從上面和下面的給油口排出一次。在相應(yīng)上、下給油口內(nèi)設(shè)有合二為一的排油結(jié)構(gòu)，要改變奇數(shù)出油，只需調(diào)整導(dǎo)套的方向即可實(shí)現(xiàn)。還可以從指示桿的動作直接觀察分配器的工作情況，同時還可以通過調(diào)整螺釘在規(guī)定范圍內(nèi)方便地調(diào)整各個出油口的給油量。
該型分配器適用于公稱壓力為40MPa的雙線式干油集中潤滑系統(tǒng)中。它在兩條供油主管交替的供油壓力作用下，直接由供油壓力控制活塞動作，完成向潤滑點(diǎn)定量分配潤滑脂的功能。
2SSPQ2-P1.5
很多潛在的工藝問題均與布局有關(guān)。化學(xué)機(jī)械平面化（ChemicalMechanicalPlanarization，CMP）中的凹陷和浸蝕、金屬版印刷的光學(xué)近似效應(yīng)（OpticalProximityEffects）、蝕刻負(fù)載（EtchLoading）以及許多其他的工藝特性都隨著特征密度（FeatureDensity）而改變。過程工藝（ViaProcess）取決于主要層的特性，以及其本身的布局堆棧式（stacked）或非堆棧式（unstacked）。
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