SK2D-2-12HL雙溫區真空管式爐

SK2D-2-12HL雙溫區真空管式爐SK2D-2-12HL系列管式多溫區爐采用高純石英管或高純氧化鋁管作為爐管，工作溫度區間800℃至1200℃，客戶可根據實際需要選購。每個溫區可單獨控溫，該系列設備的控制系統國際領先，具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高，可通氣氛抽真空等特點，廣泛應用于高等院校，科研院所，工礦企業等實驗和小批量生產。真空管式爐以進口鉬絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，具有真空裝置，可以通氣氛抽真空，真空泵可以根據客戶要求的真空度選配，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。

主要用途：高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、鍍膜、氣氛還原、CVD實驗、真空退火，碳納米管及歸納米線的制備等。