醫(yī)藥原料廠廢氣臭味凈化設(shè)備

醫(yī)藥原料廠廢氣臭味凈化設(shè)備

制藥廠廢氣臭味處理方案醫(yī)藥原料廠廢氣凈化設(shè)備：
       除臭設(shè)備可運(yùn)用在廢氣、廢水和垃圾回收處理，對于廢氣的治理，目前多采用液體吸收法治理;廢水的治理，目前多采用離子除臭設(shè)備;垃圾回收站的治理，目前多使用噴霧除臭設(shè)備。 制藥、印染、制造、化工、化纖等行業(yè)在運(yùn)作過程中會產(chǎn)生大量揮發(fā)性有機(jī)污染物(VOCs)傳統(tǒng)的處理方法如吸收、吸附、冷凝和燃燒法等（詳見：有機(jī)廢氣處理組合工藝），對于低濃度的VOCs很難實(shí)現(xiàn)，而光催化降解VOCs又存在催化劑容易失活的問題，利用低溫等離子體處理VOCs可以不受上述條件的限制，具有潛在的優(yōu)勢。除臭裝置  除臭設(shè)備 醫(yī)藥廠臭味凈化 低溫等離子臭味處理
       低溫等離子廢氣處理設(shè)備已經(jīng)還廣泛的應(yīng)用于環(huán)境保護(hù)、包裝、紡織、塑料制品、汽車制造、電子設(shè)備制造、家電制造、計(jì)算機(jī)制造、手機(jī)制造、生物材料、衛(wèi)生材料、醫(yī)療器皿、殺菌消毒、環(huán)保設(shè)備、石油天然氣管道、供暖管道、化工子、半導(dǎo)體、航空航天等行業(yè)中。低溫等離子廢氣處理工藝概述——
  低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的 放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。

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