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伯東 KRI 考夫曼離子源KDC用于離子束拋光工藝

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產(chǎn)品價(jià)格: 1/人民幣 
最后更新: 2020-06-05 16:09:00
產(chǎn)品產(chǎn)地: 美國(guó)
發(fā)貨地: 本地至全國(guó) (發(fā)貨期:當(dāng)天內(nèi)發(fā)貨)
供應(yīng)數(shù)量: 不限
有效期: 長(zhǎng)期有效
最少起訂: 1
瀏覽次數(shù): 380
詢價(jià)  試用會(huì)員產(chǎn)品
  • 公司基本資料信息
    • 伯東企業(yè)(上海)有限公司
    • 先生 
    • 會(huì)員[試用會(huì)員產(chǎn)品]
    • 郵件marketing@hakuto-vacuum.cn
    • 手機(jī)15201951076
    • 電話
    • 傳真
    • 地址上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室 201206
    • 進(jìn)入商鋪
     
    產(chǎn)品詳細(xì)說(shuō)明


    離子束拋光工藝加工精度和表面質(zhì)量高離子束加工是靠微觀力效應(yīng),被加工表面層不產(chǎn)生熱量, 不引起機(jī)械應(yīng)力和損傷, 離子束拋光加工精度可達(dá)mm級(jí).


    因此離子束拋光加工已逐漸成為光學(xué)零件表面超精加工常用的最后一道工藝, 而離子源是離子束拋光機(jī)的核心部件.


    離子源是使中性原子或分子電離, 并從中引出離子束流的裝置. 它是各種類型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機(jī)、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器、離子束拋光機(jī)等設(shè)備的不可缺少的部件.


    在離子束拋光機(jī)中, 離子源通過(guò)控制離子的強(qiáng)度及濃度, 使拋光刻蝕速率更快更準(zhǔn)確, 拋光后的基材上獲得更平坦, 均勻性更高的薄膜表面.


    上海伯東美國(guó) KRI 直流電源式考夫曼離子源 KDC 系列成功應(yīng)用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī) ( IBF Optical coating ) 及晶體硅片離子束拋光機(jī)  ( IBF Clrystalline ) 工藝.考夫曼離子源內(nèi)置型的設(shè)計(jì)更符合離子源于離子拋光機(jī)內(nèi)部的移動(dòng)運(yùn)行.


    伯東KRI 考夫曼離子源用于離子束拋光工藝


    KRI 離子源用于離子束拋光實(shí)際案例一:
    1. 基材: 100 mm 光學(xué)鏡片
    2. 離子源條件: Vb: 800 V ( 離子束電壓 ), Ib: 84 mA ( 離子束電流 ) , Va: -160 V ( 離子束加速電壓 ), Ar gas ( 氬氣 ).



    KRI 離子源用于離子束拋光實(shí)際案例二:
    1. 基材: 300 mm 晶體硅片
    2. 離子源條件: Vb: 1000 V ( 離子束電壓 ), Ib: 69 mA ( 離子束電流 ), Va: -200 V ( 離子束加速電壓 ) Ar gas ( 氬氣 )



    KRI 離子源實(shí)際安裝案例一:  KDC 10 使用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī)


    KRI 離子源實(shí)際安裝案例二: KDC 40 使用于晶體硅片離子束拋光機(jī)


    上海伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 系列根據(jù)客戶離子拋光工藝條件提供如下型號(hào):

    型號(hào)

    KDC 10

    KDC 40

    KDC 75

    KDC 100

    KDC 160

    電壓

    DC magnetic confinement

    - 陰極燈絲

    1

    1

    2

    2

    2

    - 陽(yáng)極電壓

    0-100V DC

    電子束

    電子束

    - 柵極

    專用,自對(duì)準(zhǔn)

    - 柵極直徑

    1 cm

    4 cm

    7.5 cm

    12 cm

    16 cm


    1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域.


    上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 (離子槍) 中國(guó)總代理.


    若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

    上海伯東: 羅先生                               臺(tái)灣伯東: 王小姐
    T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
    F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
    M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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