伯東 KRI霍爾型離子源eH 3000用于提高金屬涂層附著力

附著力實質是界面間的作用力,是有機涂層與基體間通過物理和化學作用結合在一起的牢固程度,它主要包括兩方面內容:有機涂層與金屬基體間相互結合的能力及有機涂層分子間交聯的程度.

涂層與基體間的結合力越大越好,涂層中有機溶劑揮發的越徹底,分子間的交聯就越穩定,形成的涂層漆膜就越致密牢固,腐蝕介質就不容易侵蝕基體底部.

如果金屬及金屬鍍 層表面附著力較弱, 則復合上去的復合層比較容易剝落而分層, 這就容易導致質量問題, 從而引起客戶的投訴, 最終影響公司的形象。

為了提高、保證金屬涂層的質量, 伯東客戶經過我司推薦采用KRI 考夫曼離子源 EH 3000 安裝于生產設備中, 大大提高了金屬涂層附著力和提高生產率.

霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協作下將工藝氣體等離子化. 這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束.  由于軸向磁場的作用太強, 霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流. 常見的中和源就是鎢絲（陰極）.

KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
? 水冷 - 加速冷卻
? 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
? 高效的等離子轉換和穩定的功率控制

伯東 KRI霍爾型離子源eH 3000用于提高金屬涂層附著力案例: 國內某知名金屬涂層制造商
1. 離子源應用: 金屬涂層
2. 離子源: 采用美國KRI 考夫曼離子源 KRi EH 3000. 離子源 EH 3000所產生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋蒸鍍機中大范圍的載具 (substrate holder), 無論是生產良率或是均勻性都可達到最高生產效能.
3. 離子源功能: 通過 KRI EH 3000 霍爾源實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能后, 所生產出的燈具無論是環境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應力測試等等… 都優于目前一般業界蒸鍍機所搭配的離子源.

       EH 3000 離子源本體

             EH 3000 離子源控制器

上海伯東是美國KRI 考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國總代理. 美國KRI 考夫曼公司離子源已廣泛應用于離子濺射鍍膜 IBSD. KRI 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質量之薄膜. KRI 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式KRI 考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式KRI 考夫曼離子源.

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