伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 應用于離子刻蝕 IBE

離子刻蝕是利用眾所周知的陰極濺射效應對表面進行選擇性的剝離加工. 由于轟擊粒子小和離子刻蝕過程的計量極為精確, 因此, 用這種方法加工表面, 使表面溶解深度在單原子層范圍內. 離子刻蝕可用來清洗, 拋光或進行薄刻蝕. 簡單的說利用離子轟擊作用, 對材料表面進行刻蝕的過程.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 系列已廣泛被應用于離子刻蝕 (IBE) 工藝.

伯東 KRI 離子源考夫曼離子源具有高離子濃度 (High beam currents) 及低離子能量 (Low beam energies). 此兩個特殊條件對于刻蝕效率及刻蝕中避免傷害到工件表面材質可以達到優化. 并且可以依客戶之工件尺寸選擇所對應之型號: 射頻離子源 RFICP 380, 射頻離子源 RFICP 220, 射頻離子源 RFICP 140, 射頻離子源 RFICP 100, 射頻離子源 RFICP 40

伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (美國考夫曼公司) KRI 離子源大中國區總代理.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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