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圖1給出了 KRI 柵格離子源的示意圖, 其中描述了直流放電. 離子是由圓形或細長放電腔中的放電產生的. 可以使用幾種類型的電子發(fā)射陰極. KRI 寬束工業(yè)離子源的熱絲類型如圖1所示. 離子也可以通過射頻放電產生, 這不需要電子發(fā)射陰極. 放電室通過束電源保持在正電位. 離子通過熒光屏上的孔和加速器柵格進行加速, 這兩者統(tǒng)稱為離子光學.
加速器的柵極與周圍的真空室(在地面上)是負的, 以防止電子從中和器通過離子光學往回走. 假設單電荷離子, 這是適合這種類型的離子源時, 適當?shù)牟僮? 離子獲得的能量eV(電子伏特)等于束電源電壓.
KRI 寬束柵格離子源的工作背景壓力約為 0.5毫托或更少. 離子束的輸出取決于離子光學設計. 隨著柵格間距的增大和孔數(shù)的增加, 光束電流會增加. 根據(jù)柵格的形狀和柵格中孔的相對位置, 離子束可以聚焦到覆蓋一個小的區(qū)域, 平行, 或散聚焦到覆蓋一個大的區(qū)域.
在較低的束流電壓下, 通過增加負加速電壓, 似乎可以獲得較大的離子束電流. 但是一個大的負電壓會導致離子束向外擴散, 以至于到達目標的離子流實際上會減少. 三柵格光學可以減少大負壓下的光束擴散, 但效果有限, 并有其他折衷.
無論使用何種離子光學, KRI 寬束網(wǎng)格離子源在低離子能量下都無法接近無網(wǎng)格端離子源的離子電流容量. 離子光學, 給予優(yōu)越的控制離子軌跡, 也是最昂貴的部分網(wǎng)格離子源和需要最多的維護.
KRI 寬束網(wǎng)格離子源可選：KRI 射頻離子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40
KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10
無柵離子源的種類很多, 無柵離子源中的離子由放電電源產生, 由陰極中和器的電子通過磁場線產生的加速電位差到達陽極.
如下圖所示, 它有一個圓形或加長的放電室, 離子的加速發(fā)生在準中性等離子體中, 具有近似相等的電子和離子密度.
因此, 離子束電流Ib不受限制, 離子束約為放電電流的20-30%, 平均離子能量約為放電電壓的60-70%. 端廳離子源的工作背景壓力約為一毫托或更少. 與網(wǎng)格離子源相比, 它是可靠的和堅固的. 它可以在200 eV或更少的離子束能量下產生大的離子束電流. 它不能輕易地產生更高的離子束能量, 并且離子束的形狀被限制在發(fā)散的形狀.
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列包括、eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH 200、eH Linear
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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