產(chǎn)品描述

UV保護(hù)膜的特點(diǎn)

1、切割時(shí)高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時(shí)晶片不飛散,不殘膠。

2、照射UV反應(yīng)時(shí)間快速，有效提升工作效率。

3、保持晶粒在切割中的完整，（無(wú)任何晶粒流失）減少切割中所產(chǎn)生的崩碎。

4、確保晶粒在正常傳送過(guò)程中,不會(huì)有位移、掉落的情形，水不會(huì)滲入晶粒與膠。

   帶之間。

5、具有適當(dāng)?shù)臄U(kuò)張性。

6、可根據(jù)客戶需求研發(fā)不同制程的UV膜和提供特殊尺寸的產(chǎn)品。

8、卓越的切割性、裝載性。

9、支持低溫的晶圓背面粘貼
加工定制 是 厚度 0.05（mm） 適用范圍 半導(dǎo)體硅片晶圓切割
用途 玻璃保護(hù)膜 材質(zhì) PE保護(hù)膜












顏色：透明. 基材：RP301保護(hù)膜 厚度：咨詢（mm）
短期耐溫性：.（℃） 加工定制：是 寬度：.（mm）
類型：日東保護(hù)膜 長(zhǎng)期耐溫性：.（℃） 型號(hào)：.
適用范圍：UV保護(hù)膜 品牌：bk ..：.






藍(lán)膜、翻晶膜、UV膜、晶圓藍(lán)膜、日東藍(lán)膜、切割藍(lán)膜、白膜
T-80MB藍(lán)膜、SPV224藍(lán)膜、KL680藍(lán)膜、PVC藍(lán)膜
半導(dǎo)體硅片晶圓切割藍(lán)膜、基板切割藍(lán)膜、
藍(lán)色磨砂保護(hù)膜、晶圓切割藍(lán)色保護(hù)膜、芯片藍(lán)膜
二、用途：
藍(lán)色保護(hù)膜：為半導(dǎo)體晶圓廠做晶圓切割或基板切割、背面研磨、減薄制程中所使用保護(hù)表面回路的保護(hù)膜，PVC材質(zhì)，有帶PET離型膜，可在無(wú)塵室內(nèi)使用。
A、半導(dǎo)體晶圓硅片----切割用藍(lán)膜、切割用UV膜
D、基板切割-------------基板切割用藍(lán)膜、基板切割用UV膜
E、芯片切割-------------芯片切割用藍(lán)膜、芯片切割用UV膜
C、半導(dǎo)體晶圓硅片----減薄（削薄）、背面研磨、翻晶膜、熱剝離膜、UV紫外線膜
三、規(guī)格、厚度、顏色、材質(zhì)、粘性：
A、規(guī)格齊全有：4寸、5寸、6寸、8寸、12寸、100MM～300M或可分切任何規(guī)格
B、厚度齊全有：0.08MM、0.1MM、0.12MM
C、顏色齊全有：深藍(lán)色、淺藍(lán)色、奶白色、淡黃色
D、材質(zhì)齊全有：PVC、PO、PET、EVA、PVG
E、粘性齊全有：低粘、中粘、高粘、有帶UV紫外線和不帶UV的
F、型號(hào)齊全有：SPV-224、T-80MB、KL680、T-80HB、SPV-225
如需了解更多型號(hào)及資料歡迎來(lái)電，我們將竭誠(chéng)為您服務(wù)!

 運(yùn)輸、儲(chǔ)存過(guò)程中的注意事項(xiàng)

1、避光。可見(jiàn)光也能使膠水緩慢固化，因此不可以長(zhǎng)時(shí)間暴露在空氣中。

2、防潮。吸潮后膠水性能會(huì)有所下降，因此不可以長(zhǎng)時(shí)間打開(kāi)瓶蓋。

3、常溫。當(dāng)溫度高于80度時(shí)，可能引發(fā)化學(xué)反應(yīng)，因而膠水不宜長(zhǎng)時(shí)間放于高

   溫的地方。UV硬化型BG用表面保護(hù)膠帶系列, 是可以在背景工程中確實(shí)保護(hù)晶圓表面不受研磨碎屑, 水分侵入, 防止晶圓表面污染的硬化型BG用表面保護(hù)膠帶。膠帶剝離時(shí),是先以紫外線照射晶圓,降低其黏著力后, 再加壓晶圓來(lái)進(jìn)行膠帶的剝離, 亦適用于大尺寸及薄型晶圓的處理。



厚度：(thicjness) 0.12mm 0.17mm

基材（base material) pvc po



uv固化晶圓切割保護(hù)膜（膠帶）的特點(diǎn)就是在uv固化前有普通保護(hù)膜所不能比的超高粘度（可以達(dá)到驚人的1500g，2000g gf/25mm）但是在uv紫外線照射之后粘度又可以變成超低粘的15g和20g

還有一個(gè)特點(diǎn)就是具有極強(qiáng)的延展性（elongation%）可以達(dá)到300 ，600

以上特點(diǎn)使得adtech的晶圓切割保護(hù)膠帶：




1.

因?yàn)橛泻軓?qiáng)的黏著力來(lái)固定晶圓, 即使是小芯片也不會(huì)發(fā)生位移或剝除而能確實(shí)的切割。







2.

因?yàn)橛勺贤饩€照射能夠控制瞬間的黏著力, 即使是大芯片也可以用較輕的力道正確的撿拾。







3.

沒(méi)有晶圓表面的金屬離子等污染,也沒(méi)有黏著劑沾染所造成的污染, 更不會(huì)因?yàn)檎丈渥贤饩€而對(duì)IC造成不好的影響。







4.

幾乎沒(méi)有因?yàn)樽贤饩€照射造成膠帶伸縮性不佳的問(wèn)題, 顯示其充分的延展性能夠防止芯片因接觸而破損。







5.

除了有減少因?yàn)楦咚偾懈罘绞角懈顣r(shí)膠帶斷片發(fā)生的膠帶之外,也有薄型封裝用的特殊等級(jí)膠帶。







6.

黏著加工的環(huán)境為潔凈度等級(jí)100(美規(guī)209b)。




用途：UV膜是將特殊配方涂料涂布于PET薄膜基材表面，以達(dá)到阻隔紫外光及短波長(zhǎng)可見(jiàn)光之效果。適用于光學(xué)蝕刻制程或制程中

4、保持潔凈。在膠帶粘貼前請(qǐng)先將被粘體表面的油污，塵埃，水分等擦凈。

5、忌手碰膠面。使用時(shí)請(qǐng)勿用手直接觸摸膠帶的膠面。

6、忌二次使用。貼錯(cuò)位置時(shí)，請(qǐng)使用全新膠帶，避免膠帶再度使用。UV膜（UV tape）是專為晶片研磨、切割及軟性電子零件之承載加工之用而設(shè)計(jì)。涂布特殊粘膠，具高粘著力,切割時(shí)能以超強(qiáng)的粘著力確實(shí)粘住晶片即使是小晶片也不會(huì)發(fā)生位移或剝除使晶片于研磨、切割過(guò)程不脫落、不飛散而能確實(shí)的切割。加工結(jié)束后，只要照射適量的紫外線就能瞬間的降低粘著力,即使是大晶片也可以用輕松正確的撿拾而不殘膠脫膠受污染,提高撿晶時(shí)的撿拾性,沒(méi)有黏著劑沾染所造成的污染,更不會(huì)因?yàn)檎丈渥贤饩€而對(duì)IC造成不好的影響。



產(chǎn)品特點(diǎn):
*切割時(shí)高粘著力,照射UV后粘度很低撿拾時(shí)晶片不飛散,不殘膠.
*照射UV反應(yīng)時(shí)間快速，有效提升工作效率。


注意事項(xiàng)
一）在膠帶粘貼前請(qǐng)先將被粘體表面的油污，塵埃，水分等擦凈。
二）在太陽(yáng)光照射下膠帶的粘著力在短時(shí)間內(nèi)會(huì)下降，所以膠帶保管時(shí)，一定要放在遮光袋內(nèi)，放置于陰涼之處。
三）膠帶在使用時(shí)，請(qǐng)將環(huán)境溫度控制在10℃至30℃。在此溫度環(huán)境外使用時(shí)，會(huì)造成接合不良。
四）使用時(shí)請(qǐng)勿用手直接觸摸膠帶的膠面。
五）貼錯(cuò)位置時(shí)，請(qǐng)使用全新膠帶，避免膠帶再度使用。



更多歡迎您的聯(lián)絡(luò)，咨詢了解。

備注：產(chǎn)品可以根據(jù)客戶特殊需要,進(jìn)行各種厚度和粘性以及防靜電處理,可模切加工。詳細(xì)技術(shù)參數(shù)可以向客服人員索取。