真空氣氛管式爐

一、真空氣氛管式爐概述

真空氣氛管式爐額定溫度分別為1100℃、1400℃、1500℃、1600℃、1700℃，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備。

二、真空氣氛管式爐特點

1、控制精度：±1℃    爐溫均勻度：±1℃(根據加熱室大小而定) 。

2、操作方便，可編程，PID自整定、自動升溫、自動保溫、 自動降溫，無需值守；可另配與計算機通訊通過計算機操作電爐（啟動電爐、停止電爐、暫停升溫、設定升溫曲線、升溫曲線儲存、歷史曲線等），軟件免費詳見：計算機控制系統。

3、爐管采用剛玉99陶瓷管。

4、不銹鋼KF金屬法蘭密封（雙膠圈） 

5、爐體溫度接近室溫

6、雙回路保護

7、進口耐火材料，保溫性能好，耐溫高

8、真空度 -0.1Mpa

9、可通多種氣體（氧氣、氮氣、氬氣、氫氣等）

三、真空氣氛管式爐參數

注：可根據用戶要求另行設計制造，更多規格及參數和詳細技術方案請來電咨詢。