氧化鈦(TiO₂)是一種具有多元晶格結(jié)構(gòu)的光學(xué)鍍膜材料, 氧化鈦在550nm處的折射率可在2.2～2.7之間變化, 是一種很好的高折射率材料.  因此, 氧化鈦(TiO₂)是光學(xué)鍍膜材料中最受歡迎的材料之一.

離子源助鍍鍍膜可改善膜層致密性、增加折射率、反射率, 提升產(chǎn)品性能指標.

某國內(nèi)光學(xué)鍍膜制造商為了制備 TiO₂ 薄膜并提升高反膜性能, 其采用離子源輔助蒸鍍 TiO_2薄膜.

經(jīng)過與伯東工程師討論, 該制造商最終采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時為了為鍍膜工業(yè)提供穩(wěn)定的合適的真空環(huán)境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達1x10^-7hpa, 抽速可達 685 L/s, 很好保證成膜質(zhì)量.

美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:

1. 大面積射頻離子源

2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求

3. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求

4. 離子束流: >1500 mA

5. 離子動能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自動控制器, 一鍵自動匹配

8. RF Generator 可根據(jù)工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW

9. 離子源采用模塊化設(shè)計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝

10. 柵極材質(zhì)鉬和石墨, 堅固耐用

11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

運行結(jié)果：

與正常蒸鍍工藝相比, 基片溫度相同條件下, 使用 KRI 射頻離子源 RFICP 380 輔助沉積工藝, 可以有效提高的 TiO₂ 薄膜折射率；離子束助鍍工藝激光器峰值功率離散度最小, 且平均峰值功率普遍高于正常蒸鍍工藝.

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伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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