宜興恩越研磨廢水的回用處理工藝,其特征在于,包括如下步驟：

  將研磨廢水排入收集槽;

  收集槽內的液體經調節池進入pH調整池進行處理;

  pH調整池處理后的液體進入混合反應池進行處理;

  混合反應池處理后的液體進入絮凝反應池進行處理;

  絮凝反應池處理后的液體進入沉淀池進行處理;

  沉淀池處理后的液體經UF給水箱進入砂濾器進行處理;

  砂濾器處理后的液體進入UF裝置進行處理;

  UF裝置處理后的液體進入處理水箱待回用。

  2.根據權利要求1所述的晶元研磨廢水的回用處理工藝,其特征在于,pH調整池,混合反應池,絮凝反應池,沉淀池內的污泥排入污泥池;

  污泥池內的含水污泥送入板框壓濾機進行壓濾,壓濾液進入調節池,壓濾出的干污泥外運處理。

  3.根據權利要求2所述的晶元研磨廢水的回用處理工藝,其特征在于,UF裝置通過壓縮空氣進行反沖洗。

  4.根據權利要求3所述的晶元研磨廢水的回用處理工藝,其特征在于,調節池配有應急池。

  5.根據權利要求4所述的晶元研磨廢水的回用處理工藝,其特征在于,pH調整池中投入了NaOH。

  6.根據權利要求5所述的晶元研磨廢水的回用處理工藝,其特征在于,混合反應池中投入了PAC。

  7.根據權利要求6所述的晶元研磨廢水的回用處理工藝,其特征在于,絮凝反應池中投入了PAM。

  說明書

  恩越研磨廢水的回用處理工藝

  技術領域

  本發明涉及凱雄研磨廢水的回用處理工藝。

  背景技術

  在加大節能減排力度的背景下,國內三廢行業繼續取得了較好的發展業績。我國“十二五”規劃綱要提出,強化環境治理,到2015年,實現城鎮生活垃圾無害化處理率100%,城市生活污水集中處理率90%,重點工業企業廢水,廢氣排放達標率100%,工業固體廢物處置利用率100%。

  工業生產中,很多半導體企業均會在生產工藝涉及到晶元研磨工藝,該工藝一般采用處理成本較高的高純水作為沖洗水,而產生的硅晶粉末顆粒細小,使用傳統工藝一般是采用簡單的絮凝去除,去除效率較低,因此不可避免地產生含硅晶粉末廢水,這些廢水無法回收利用,僅能排放。隨著國內環保要求的不斷提高,如何減少廢水排放,充分利用水資源,特別是成本較高的高純水資源達到經濟效益已成為環保行業亟待解決的技術難題。

  發明內容

  本發明的目的在于提供一種晶元研磨廢水的回用處理工藝,其可對晶元研磨廢水進行有效處理,處理后水質滿足生產回用需求。

  為實現上述目的,本發明的技術方案是設計一種晶元研磨廢水的回用處理工藝,包括如下步驟：

  將晶元研磨廢水排入收集槽;

  收集槽內的液體經調節池進入pH調整池進行處理;

  pH調整池處理后的液體進入混合反應池進行處理;

  混合反應池處理后的液體進入絮凝反應池進行處理;

  絮凝反應池處理后的液體進入沉淀池進行處理;

  沉淀池處理后的液體經UF給水箱進入砂濾器進行處理;

  砂濾器處理后的液體進入UF裝置進行處理;

  UF裝置處理后的液體進入處理水箱待回用。

  優選的,pH調整池,混合反應池,絮凝反應池,沉淀池內的污泥排入污泥池;

  污泥池內的含水污泥送入板框壓濾機進行壓濾,壓濾液進入調節池,壓濾出的干污泥外運處理。

  優選的,UF裝置通過壓縮空氣進行反沖洗。

  優選的,調節池配有應急池。

  優選的,pH調整池中投入了NaOH。

  優選的,混合反應池中投入了PAC。

  優選的,絮凝反應池中投入了PAM。

  本發明的優點和有益效果在于：提供一種晶元研磨廢水的回用處理工藝,其可對晶元研磨廢水進行有效處理,處理后水質滿足生產回用需求,可實現零排放,全回收。

  本發明可提高晶元研磨中水的晶元截留效率,減少廢水排放量,減少污染物進入后續水體,有利于改善后續水體的水質狀況;處理后的中水可以回用至生產系統,充分利用水資源,降低生產成本,取得更高效益。