離子源又稱離子槍，用以產(chǎn)生離子束流。其基本工作原理是將待電離氣體注入電離室，然后使氣態(tài)原子與電子發(fā)生碰撞而被電離，哈默納科粒子機(jī)械諧波LA-30B-10-F-L  從而得到等離子體。等離子體是多種離子的集合體，其中有帶電粒子和不帶電粒子，在宏觀上呈電中性。采用一個(gè)相對(duì)于等離子體為負(fù)電位的電極〔吸極)，將離子由等離子體中引出而形成離子束流，而后使其加速射向工件或靶材。對(duì)離子源的要求，首先是離子束有較大的有效工作區(qū)，哈默納科粒子機(jī)械諧波LA-30B-10-F-L 以滿足實(shí)際加工的需要。其次，離子源的中性損失要小。因?yàn)橹行該p失是指通向離子源的中性氣體未經(jīng)電離而損失的那部分流量，它將直接給真空系統(tǒng)增加負(fù)擔(dān)。此外，還要求離子源的放電損失小，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，運(yùn)行可靠等。

    根據(jù)離子束產(chǎn)生的方式和用途不同哈默納科粒子機(jī)械諧波LA-30B-10-F-L ，離子源有很多形式。常用的有考夫曼型離子源和雙等離子管型離子源。

三、離子束加工的應(yīng)用

    目前，用于改變零件尺寸和表物理力學(xué)性能哈默納科粒子機(jī)械諧波LA-30B-10-F-L 的離子束加工技術(shù)主要有以下四種，即利用離子撞擊和濺射效應(yīng)的離子束刻蝕、離子濺射鍍膜和離子鍍，以及利用離子注入效應(yīng)的離子注入。