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它由紅外導入主體，多端口真空室，溫度控制器等組成，可以在超真空下以超高速升高樣品的溫度。
由于端口很多，因此可以用于各種實驗。
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可以進行干凈的加熱，并且可以通過打開和關閉真空室的前門來取出和取出樣品。
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[應用]-
在真空/氣體氣氛中連續控制樣品的溫度上升/
下降-樣品表面加熱和背面冷卻的快速上升
/ 下降測試（可選）-在加壓氣氛中加熱（可選）
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型號名稱
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GV1
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GV2
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紅外燈額定值
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1千瓦
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2千瓦
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最高溫度
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1300℃
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1500℃
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受熱面
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?Φ20毫米
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最大加熱速度
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100-150℃/秒
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最大極限真空
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5×10 -5帕
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冷水量
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1升/分鐘
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2升/分鐘
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它由紅外線引入加熱裝置，小型真空室，溫度測量樣本單元，恒定值溫度控制器等組成。
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通過用來自底表面的紅外線在真空室中照射樣品，可以進行樣品的清潔加熱和快速退火。
您可以從反應室頂部的觀察窗觀察并觀察溫度升高期間的樣品。
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型號名稱
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RTA198
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RTA298
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紅外燈額定值
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1千瓦
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2千瓦
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最高溫度
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900-1000℃
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1000-1300℃
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受熱面
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?Φ20毫米
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最大極限真空
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5×10 -3帕
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5×10 -5帕
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冷水量
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1升/分鐘
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2升/分鐘
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它由超高真空型紅外引入加熱裝置，超高真空室，質量分析儀，電源/安全電路單元和真空排氣裝置組成，可以分析從高溫樣品中產生的痕量氣體。 ..
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紅外線導入加熱裝置在真空室內具有熱源，不產生氣體，可以進行干凈的加熱，可以進行高精度的分析。
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型號名稱
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GV2H
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紅外燈額定值
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2千瓦
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最高溫度
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1500℃
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受熱面
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φ15毫米
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最大極限真空
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5×10 -6帕
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目的地
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京都大學
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它也是磁場中樣品熱處理的理想選擇。
[特點]-
清潔加熱，不會因電磁感應而影響樣品，因為它被光加熱-
只能精確加熱樣品，不加熱磁體。
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還可以在真空或氣體氣氛中在磁場中升高溫度。
它可以連接到各種電磁體和超導磁體。
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加熱后的樣品與可控氣氛的石英芯管一起插入磁體孔中。
在樣品溫度為1000°C時，孔內壁溫度為40°C或更低。
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在高真空的X射線照射過程中，樣品被加熱到超高溫。
（紅外線是從左上和右下對角線方向發出的，而線X是從左上和水平方向上發出的。）
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真空室安裝在XY工作臺，旋轉工作臺和旋轉工作臺上，可以在加熱，保持或降低樣品的同時從任何角度進行晶體結構分析。
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型號名稱
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GVL298-2S
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紅外燈額定值
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2千瓦x 2
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最高溫度
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1500℃
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受熱面
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φ20毫米
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最大極限真空
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5×10 -4帕
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交貨地點：Spring-8
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這是在XPS上安裝GVL298類型的示例。
樣品的溫度通過紅外輻射升高，并且樣品中所含的水和氣體被去除和清潔。
通過超高真空中的傳輸桿將樣品移至照片右側的XPS分析室，然后施加X射線進行表面分析。
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