伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 10 用于 IBF 離子束拋光工藝

上海伯東是美國(guó)考夫曼博士創(chuàng)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源中國(guó)總代理.

某光學(xué)鏡片制造商為了使光學(xué)鏡片的拋光刻蝕速率更快更準(zhǔn)確, 拋光后的基材上獲得更平坦, 獲得均勻性更高的薄膜表面, 而采用伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 10 用于 IBF 離子束拋光工藝.

KRI 離子源 KDC 10 客戶實(shí)際安裝圖如下：

客戶基材: 100 mm 光學(xué)鏡片

離子源條件: Vb: 800 V ( 離子束電壓 ), Ib: 84 mA ( 離子束電流 ) , Va: -160 V ( 離子束加速電壓 ), Ar gas ( 氬氣 ).

伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 技術(shù)參數(shù)：

Discharge: DC 熱離子

離子束流: >10 mA

離子動(dòng)能:100-1200 V

柵極直徑:1 cm Φ

離子束:聚焦, 平行, 散射

流量:1-5 sccm

通氣:Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力:< 0.5m Torr

長(zhǎng)度:11.5 cm

直徑:4 cm

中和器:燈絲

KRI 離子源 KDC 10 客戶使用結(jié)果:

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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