濟寧設計半導體廢氣用什么辦法治理辦法

濟寧設計半導體廢氣用什么辦法治理辦法

半導體芯片生產線廢氣介紹
廢氣成分：半導體芯片生產線廢氣主要包括酸堿廢氣和有機廢氣兩類。酸/堿廢氣包括：氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、等。有機廢氣包括：非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等；

廢氣來源：在半導體芯片生產線造成環境污染的有害氣體，主要來源于芯片生產的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中。

廢氣特點：半導體芯片生產線廢氣具有排氣量大、濃度小的特點。

主要危害：半導體芯片生產線對大氣的污染，主要是器件清洗等表面處理過程中因使用一些化學藥劑（如硫酸、鹽酸、氟氯化碳、四氯化碳、三氯乙烷及其他有機鹵化物）揮發造成對大氣環境的污染，以及整機裝配過程中產生的機械噪聲和少量粉塵也會造成環境污染，這些污染氣體會造成人群慢性或急性中毒。


半導體芯片生產線酸堿性廢氣處理工藝

工作原理：

（1）立式廢氣洗滌塔工作原理為氣液兩相逆流接觸；含酸性或堿性廢氣由塔下部進口進入塔內向上運動，通過單層或多層填料，廢（尾）氣與液相充分接觸后吸收或中和，干凈的氣體經過上層的除霧層排出，從而達到吸收和凈化效果；

（2）臥式廢氣洗滌塔的工作原理為氣液兩相交叉流接觸，酸堿廢（尾）氣通過填料層段時與液相充分接觸后吸收或中和，從而達到吸收或凈化的效果。

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