江蘇半導體酸堿廢氣異味凈化工程設計

江蘇半導體酸堿廢氣異味凈化工程設計

半導體芯片生產線廢氣介紹
廢氣成分：半導體芯片生產線廢氣主要包括酸堿廢氣和有機廢氣兩類。酸/堿廢氣包括：氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、等。有機廢氣包括：非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等；

廢氣來源：在半導體芯片生產線造成環(huán)境污染的有害氣體，主要來源于芯片生產的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中。

廢氣特點：半導體芯片生產線廢氣具有排氣量大、濃度小的特點。

主要設備：

（1）洗滌塔設備樣式：洗滌塔的結構型式分為立式和臥式。

（2）洗滌塔設備組成：包括塔體、填料層、除霧層、循環(huán)水管路及循環(huán)水箱等。

（3）洗滌塔設備材料：廢氣處理設備以FRP為主要材料生產，填料采用PP材質的麥勒環(huán)。

工藝流程：

酸/堿性廢氣收集→酸/堿式洗滌塔→離心風機→煙囪（達標排放）

酸堿廢氣經過收集管道集中收集后按照各自的系統(tǒng)進入相應的化學洗滌塔進行噴淋處理，格林斯達環(huán)保自主設計的化學洗滌塔通過內部的噴淋系統(tǒng)、循環(huán)水系統(tǒng)、填料過濾系統(tǒng)、除霧系統(tǒng)、自動加藥系統(tǒng)、自動補排水等系統(tǒng)對進入化學洗滌塔的廢氣進行化學吸收、除霧，經過處理后的廢氣達標排放。

江蘇半導體酸堿廢氣異味凈化工程設計