江蘇半導體器件清洗異味凈化工程設計

江蘇半導體器件清洗異味凈化工程設計

廢氣特點：半導體芯片生產線廢氣具有排氣量大、濃度小的特點。

主要危害：半導體芯片生產線對大氣的污染，主要是器件清洗等表面處理過程中因使用一些化學藥劑（如硫酸、鹽酸、氟氯化碳、四氯化碳、三氯乙烷及其他有機鹵化物）揮發造成對大氣環境的污染，以及整機裝配過程中產生的機械噪聲和少量粉塵也會造成環境污染，這些污染氣體會造成人群慢性或急性中毒。


半導體芯片生產線酸堿性廢氣處理工藝

工作原理：

（1）立式廢氣洗滌塔工作原理為氣液兩相逆流接觸；含酸性或堿性廢氣由塔下部進口進入塔內向上運動，通過單層或多層填料，廢（尾）氣與液相充分接觸后吸收或中和，干凈的氣體經過上層的除霧層排出，從而達到吸收和凈化效果；

（2）臥式廢氣洗滌塔的工作原理為氣液兩相交叉流接觸，酸堿廢（尾）氣通過填料層段時與液相充分接觸后吸收或中和，從而達到吸收或凈化的效果。


主要設備：

（1）洗滌塔設備樣式：洗滌塔的結構型式分為立式和臥式。

（2）洗滌塔設備組成：包括塔體、填料層、除霧層、循環水管路及循環水箱等。

（3）洗滌塔設備材料：廢氣處理設備以FRP為主要材料生產，填料采用PP材質的麥勒環。

江蘇半導體器件清洗異味凈化工程設計