KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜

國內(nèi)某制造商在鈦合金表面制備一層類金剛石薄膜 DLC, 以期改善鈦合金表面摩擦學性能, 為了獲得均勻且致密的類金剛石薄膜, 采用伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 制備類金剛石薄膜.

伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):

推薦理由:

使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準確、靈活地對樣品選定的區(qū)域進行沉積和刻蝕.

運行結(jié)果:

1. 沉積的類金剛石薄膜厚度約為 1.0 μm, 薄膜均勻且致密, 表面粗糙度Ra為13.23nm

2. 類金剛石薄膜與基體結(jié)合力的臨界載荷達到31.0N

3. DLC薄膜具有良好的減摩性, 摩擦系數(shù)為0.15, 耐磨性能得到提高

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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