POLOS 光譜測量儀器用于半導(dǎo)體設(shè)備 FR-Mic 系列

POLOS   光譜測量儀器用于半導(dǎo)體設(shè)備 FR-Mic 系列

 POLOS 系列
FR-Mic 370 nm - 1700 nm 光譜范圍

實時光譜測量
薄膜厚度、光學(xué)特性、不均勻性測量、厚度映射
使用集成的 USB 連接高質(zhì)量彩色相機(jī)進(jìn)行成像

工作原理：
白光反射光譜 （WLRS） 測量在光譜范圍內(nèi)從薄膜或多層堆棧反射的光量，入射光垂直于（垂直）樣品表面。

由各個界面的干擾產(chǎn)生的測量反射光譜被用于確定自立式和支撐（在透明或部分/全反射基材上）薄膜堆棧的厚度、光學(xué)常數(shù)（n & k）等。

 品牌POLOS 系列
產(chǎn)品編號FR-麥克風(fēng)-370-1700
大小FR-Mic 麥克風(fēng)
材料臺式系統(tǒng)
厚度范圍15 nm 至 150 μm
光譜范圍370 納米 - 1700 納米
光源 MTBF鹵素?zé)簦▋?nèi)部），3000 小時（不包括在內(nèi)！

 FR-Mic  是用于快速&準(zhǔn)確的涂層表征應(yīng)用的模塊化光學(xué)柱，這些應(yīng)用需要小至幾微米的光斑尺寸，典型的例子包括（但不限于）：微圖案表面，粗糙表面和許多其他。它可以與專用的計算機(jī)控制的XY舞臺結(jié)合使用，從而可以快速、輕松且準(zhǔn)確地自動映射樣品的厚度和光學(xué)屬性。

FR-Mic 提供：
實時光譜測量
薄膜厚度、光學(xué)特性、不均勻性測量、厚度映射
使用集成的 USB 連接高質(zhì)量彩色相機(jī)進(jìn)行成像
 使用 FR-Mic，只需單擊一下，即可在 UV / VIS / NIR 光譜范圍內(nèi)的任何光譜范圍內(nèi)對薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)、反射率、透射率和吸光度進(jìn)行局部測量。

當(dāng)需要表征大表面時，F(xiàn)R-Mic 可以安裝在 FR-pRo 上，也可以安裝在 FR-pRo 旁邊。

應(yīng)用：
大學(xué)和研究實驗室
半導(dǎo)體（氧化物、氮化物、硅、光刻膠等）

FR-pRo 由用戶選擇的模塊組裝而成。核心單元可容納光源、光譜儀（適用于200 nm - 2500 nm范圍內(nèi)的任何光譜范圍）以及控制和通信電子設(shè)備。然后，有各種各樣的配件，例如：
用于吸光度/透射率和化學(xué)濃度測量的膠片/比色皿支架
用于涂層表征的 Film Thickness 套件
用于在受控溫度或液體環(huán)境中進(jìn)行測量的熱敏或液體套件
用于漫反射和總反射的積分球
通過不同模塊的組合，最終設(shè)置滿足任何最終用戶的需求。
FR-pRo 系列 
用于涂層表征的模塊化和可擴(kuò)展平臺
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、大學(xué)和研究實驗室、生命科學(xué)等領(lǐng)域
 

品牌POLOS 系列
產(chǎn)品編號FR-pRo 系列
材料臺式系統(tǒng)
厚度范圍1 nm 至 120 μm
光譜范圍190 納米 - 1100 納米
光源 MTBF桌面系統(tǒng)


光譜范圍
190 納米 - 1000 納米
190 納米 - 1100 納米
190 納米 - 1700 納米
200 納米 - 1000 納米
200 納米 - 1020 納米
200 納米 - 1100 納米
200 納米 - 1700 納米
200 納米 - 850 納米
370納米 - 1020 納米
370 納米 - 1020 納米
370 納米 - 1700 納米
380 納米 - 1000 納米
380 納米 - 1020 納米
850 納米- 1050 納米
900 納米- 1700 納米
900 納米 - 1050 納米
900 納米 - 1700 納米

POLOS   光譜測量儀器用于半導(dǎo)體設(shè)備 FR-Mic 系列