AMAT 0041-32713產(chǎn)品簡介
AMAT 0041-32713是應用材料公司（Applied Materials）開發(fā)的渦輪分子泵控制器卡，專為半導體制造設備的真空系統(tǒng)設計，負責精密控制渦輪分子泵的轉速、壓力及流量參數(shù)，確保工藝腔室達到高真空環(huán)境。該產(chǎn)品兼容多品牌泵體，支持高可靠性運行，是半導體刻蝕、薄膜沉積等工藝的核心控制模塊。
主要特點和優(yōu)勢
高精度真空控制：采用數(shù)字信號處理技術，實時監(jiān)測渦輪分子泵轉速與腔室壓力，精度達±0.1 Pa，滿足半導體工藝對真空環(huán)境的嚴苛要求。
多品牌兼容性：適配Pfeiffer、Edwards等主流品牌渦輪分子泵，支持模塊化配置，適配不同設備型號的泵體參數(shù)需求。
抗干擾設計：通過電磁屏蔽與信號隔離技術，抵御工業(yè)環(huán)境中的電磁干擾，確保控制信號穩(wěn)定傳輸。
智能故障診斷：內(nèi)置自檢功能，可識別泵體過載、軸承異常等故障，實時生成報警信息并建議維護策略。
長壽命與低維護：采用工業(yè)級元器件，工作壽命超過5萬小時，支持帶電熱插拔更換，減少停機時間。
技術規(guī)格
型號：0041-32713
功能定位：渦輪分子泵控制卡
控制參數(shù)：
轉速范圍：1000-120,000 RPM
壓力監(jiān)測范圍：10?3Pa至10?Pa
流量控制精度：±5%
通信接口：
工業(yè)總線：EtherCAT、Profibus-DP
人機界面：RS-485串口（Modbus協(xié)議）
環(huán)境參數(shù)：
工作溫度：0～60℃
防護等級：IP54（防塵防濺水）
電源要求：24V DC冗余供電，支持過壓/欠壓保護
應用領域
半導體制造：集成于刻蝕機、CVD（化學氣相沉積）設備，維持工藝腔室高真空環(huán)境，保障晶圓加工精度。
真空鍍膜：控制鍍膜機真空系統(tǒng)，優(yōu)化薄膜均勻性與附著力。
科研設備：用于同步輻射光源、質(zhì)譜儀等高真空實驗裝置，確保極端環(huán)境下的穩(wěn)定運行。
工業(yè)清洗：支持真空清洗設備的壓力調(diào)控，提升清洗效率與潔凈度。
相關產(chǎn)品
AMAT ASM 192 T2D+控制器：與0041-32713協(xié)同工作，實現(xiàn)真空系統(tǒng)與工藝參數(shù)的聯(lián)動控制。
Pfeiffer HiPace 400渦輪泵：適配0041-32713的高流量泵體，適用于大腔室真空環(huán)境。
Edwards AXI 400i真空計：提供壓力數(shù)據(jù)反饋，與0041-32713形成閉環(huán)控制鏈。
