16774-21-3硝酸鈰銨溶液經(jīng)光刻濕法刻蝕工藝

硝酸鈰銨主要用于光刻鉻版流程中的蝕刻環(huán)節(jié)，憑借其可精確控制的蝕刻性能，幫助形成高精度的圖案，是制作鉻掩膜版、光學(xué)鉻版等的關(guān)鍵材料。

• 半導(dǎo)體行業(yè)：鉻憑借優(yōu)良導(dǎo)電性、穩(wěn)定性及金屬附著性，常作半導(dǎo)體電極、布線材料。硝酸鈰銨是集成電路制造中鉻金屬蝕刻液的關(guān)鍵成分，可精確控制鉻膜圖形，形成所需電路結(jié)構(gòu)。同時它也能用于蝕刻鈦或氮化鈦等阻擋層，精度高且對硅基底損傷小。
• 顯示技術(shù)行業(yè)：金屬鉻因電導(dǎo)性佳、熱穩(wěn)定性好、價格低廉等，常被用于 OLED、液晶顯示裝置等的電極與配線材料。硝酸鈰銨蝕刻液可對鉻金屬膜蝕刻，獲取高精度平滑金屬膜電極或配線，契合顯示器件高精細化、大畫面化的發(fā)展需求。
• 光學(xué)儀器行業(yè)：可用于制造望遠鏡、顯微鏡、攝影鏡頭等中的光學(xué)分劃板鉻版。硝酸鈰銨蝕刻線條質(zhì)量、線性均勻度出色，用其光刻能助力提升儀器成像質(zhì)量與分辨率。
• 光學(xué)濾光片制造行業(yè)：在制作黑鉻深截止低反射濾光片等圖形化濾光片時，可用高純度硝酸鈰銨溶液經(jīng)光刻濕法刻蝕工藝精確腐蝕黑鉻薄膜，用于生產(chǎn)光掩膜、通光光闌等需控制光透過范圍的產(chǎn)品。

中文別名：硝酸鈰(Ⅳ)銨, 硝酸鈰銨二水合物;英文名Diammonium cerium(IV) nitrate

分子式：(NH4)2Ce(NO3)6·2H2O

硝酸鈰銨分子量：584.23

CAS . :16774-21-3

外觀性狀：桔紅色單斜晶系細小結(jié)晶，易溶于水，有潮解性，密閉保存。

工業(yè)級硝酸鈰銨用途：用于電路板刻蝕劑、醫(yī)藥合成、化學(xué)試劑等行業(yè)。