山東如何選擇好專利申請(qǐng)的類型申請(qǐng)要哪些資料

一、發(fā)明專利保護(hù)產(chǎn)品和方法，其獲得授權(quán)需要經(jīng)過形式審查和實(shí)質(zhì)審查，審查周期較長(zhǎng)，對(duì)創(chuàng)造性的要求較高，保護(hù)期較長(zhǎng)；實(shí)用新型專利僅保護(hù)產(chǎn)品，其獲得授權(quán)只需經(jīng)過形式審查，審查周期較短，對(duì)創(chuàng)造性的要求較低，保護(hù)期較短。

二、近年來，作為一種專利申請(qǐng)策略，就一項(xiàng)產(chǎn)品發(fā)明既申請(qǐng)發(fā)明專利又申請(qǐng)實(shí)用新型專利（即重復(fù)申請(qǐng)），已經(jīng)越來越為人們所采用，這樣做的好處是：通過實(shí)用新型專利能更早地獲得專利保護(hù)，且當(dāng)發(fā)明的創(chuàng)造性較低而不能獲得發(fā)明專利的保護(hù)時(shí)，依然有實(shí)用新型專利的存在而提供保護(hù)。外觀設(shè)計(jì)專利保護(hù)產(chǎn)品形狀、圖案或色彩與它們的結(jié)合。

三、申請(qǐng)發(fā)明或?qū)嵱眯滦晚毺峤坏奈募?/span>——技術(shù)交底書的要求  

技術(shù)交底書的要求：   

應(yīng)清楚、完整地寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷膬?nèi)容；    

使所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠根據(jù)此內(nèi)容實(shí)施發(fā)明創(chuàng)造；   

使所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員相信本發(fā)明確實(shí)可以解決現(xiàn)有技術(shù)不能解決的問題。  

2.技術(shù)交底書的內(nèi)容:    

1)發(fā)明創(chuàng)造的名稱；    

2)所屬技術(shù)領(lǐng)域；    

3)背景技術(shù)描述，據(jù)申請(qǐng)人所知，已有技術(shù)有何優(yōu)缺點(diǎn)，對(duì)其存在的問題或不足客觀地進(jìn)行評(píng)述；    

4)發(fā)明創(chuàng)造的目的或任務(wù)，說明所要解決的技術(shù)問題；    

5)清楚完整的敘述發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案；   

對(duì)于機(jī)械產(chǎn)品的發(fā)明創(chuàng)造應(yīng)詳細(xì)說明每一個(gè)結(jié)構(gòu)零部件的形狀、構(gòu)造、部件之間的連接關(guān)系、空間位置關(guān)系、工作原理等；   

對(duì)于電器產(chǎn)品應(yīng)描述電器元件的組成、連接關(guān)系；   

對(duì)于無固定形狀和結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品，如粉狀或流體產(chǎn)品，化學(xué)品、藥品，應(yīng)描述配方、制造工藝條件和工藝流程等；   

對(duì)于方法發(fā)明，應(yīng)描述操作步驟、工藝參數(shù)等...

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