Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 用于制作閃耀羅蘭光柵

長春某研究所在制作閃耀羅蘭光柵的研究中采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機 10IBE,制造出的閃耀羅蘭光柵比其他工藝制造的光柵產品整體衍射效率高25%, 實現高衍射效率閃耀羅蘭光柵制作, 且工藝可控、穩定, 所制作的閃耀羅蘭光柵衍射效率高于市場同類產品.

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 技術參數:

Hakuto 離子刻蝕機 10IBE  離子源是配伯東公司代理美國考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 160

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC160 技術參數：

Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.

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