KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜

因此某光學(xué)薄膜制造商采用20cm 的濺射源為 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助濺射制備 LaF₃ 薄膜. 

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量

運(yùn)行結(jié)果:

1. 采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 鍍制的 LaF₃ 薄膜折射率更高, 且不存在折射率的梯度分布

2. 制備的 LaF3薄膜的環(huán)境穩(wěn)定性更高

3. 離子源濺射制備的減反膜透過(guò)率為99.2%, 反射率為 0.1%, 表現(xiàn)了較好的光學(xué)特性

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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