離子束拋光技術(shù)已經(jīng)成為光學(xué)表面超精加工中常用的最后一道工序, 原子量級(jí)的材料去除使得離子束拋光加工具有納米、亞納米級(jí)別的加工精度. 離子束拋光系統(tǒng)中的核心部件是離子源, 離子源的性能直接決定了該離子束機(jī)床的修形能力.

去除函數(shù), 是光學(xué)面形確定性加工的基礎(chǔ), 去除函數(shù)指的是單位時(shí)間內(nèi)材料去除量在空間上的分布函數(shù), 反應(yīng)材料的去除速率. 影響光學(xué)表面拋光加工精度的主要因素之一是去除函數(shù)的形狀、穩(wěn)定性以及峰值去除率. 高斯型的去除函數(shù)是光學(xué)鏡面拋光加工最理想的去除函數(shù)形狀.

KRI 射頻離子源在光學(xué)加工中具有高的去除率和穩(wěn)定性

在光學(xué)加工中, 伯東工程師推薦使用 KRI 射頻離子源, 其主要優(yōu)點(diǎn)有:

1. 不使用陰極, 靠射頻輻射激發(fā)等離子體, 因此, 不受使用氣體的限制, 工作壽命也較長(zhǎng).

2. 射頻離子源是無(wú)極放電的離子源, 因此不存在陰極消耗, 使用壽命較長(zhǎng), 對(duì)被加工工件的污染可大大減少; 

3. 射頻感應(yīng)生產(chǎn)的等離子體中只有單荷離子, 幾乎沒(méi)有雙荷離子, 因此, 離子對(duì)屏柵的濺射較小, 也增加了束流的均勻性.

伯東代理美國(guó)考夫曼公司 KRI 離子源, 可選的射頻離子源類型多, 客戶可根據(jù)自己的工藝選擇所對(duì)應(yīng)之型號(hào): 射頻離子源 RFICP 380, 射頻離子源 RFICP 220, 射頻離子源 RFICP 140, 射頻離子源 RFICP 100, 射頻離子源 RFICP 40

結(jié)果:

通過(guò)實(shí)際應(yīng)用表明, 射頻離子源去除函數(shù)的形狀為回轉(zhuǎn)高斯形, 在靶距為30mm, 離子能量為 900eV時(shí), 去除函數(shù)的峰值去除率 194nm/min, 體積去除率為19.2x10^-3mm³/min, 半峰全寬值為9.2mm; 并且去除函數(shù)的峰值去除率與體積去除率的變化均在3%以內(nèi), 半峰全寬值的變化在1.7%以內(nèi).

因此, 射頻離子源具有光學(xué)鏡面拋光加工所需的去除效率, 而且射頻離子源具有好的穩(wěn)定性, 具備光學(xué)加工的潛能.

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