一、化學鍍鎳工藝介紹

 最近幾年，我國光亮鍍鎳工藝、化學鍍鎳工藝的開發和應用迅猛發展，是電鍍行業的熱門話題。其中重要的原因是我國制造業飛速發展，推動電鍍行業化學鍍鎳工藝的發展。化學鍍鎳工藝在不斷更新和進步，但與此同時，產生的廢水也越來越難處理，給環境帶來了嚴重污染。其中化學鍍鎳工藝會產生含次磷廢水，更是電鍍廢水處理的難題。

 化學鍍鎳工藝通常是在高溫(70～90C)下進行操作，鎳的沉積速度較快，但是工藝控制困難，低溫化學鍍鎳與高溫化學鍍鎳的基礎鍍液大致相同，但由于溫度的降低，根據Arrhenius方程，鎳的沉積速度將大為降低，因此，低溫化學鍍鎳須在堿性條件下進行，這是低溫化學鍍鎳的一個特點，目前，使用高溫酸性化學鍍鎳工藝較多，因此多數電鍍液多呈現弱酸性，相應的產生的化學鍍鎳廢水也多為弱酸性。

 這種鍍鎳溶液中的主要成分如下：

 鎳鹽：提供電鍍層所需金屬離子。

 還原劑：還原金屬離子。目前多以采用次磷酸鈉為還原劑的化學鍍鎳工藝應用最為普遍。但產生的電鍍廢水中會含有次磷廢水

 絡合劑：保持鍍液穩定，能與鍍液中的鎳離子形成絡合物，控制可供反應的游離鎳濃度，抑制亞磷酸鎳的沉淀。常用的絡合劑一般含有羥基、羧基或氨基，如醋酸、丁二酸、羥基乙酸、乙二胺等。
       由于化學鍍鎳工藝中使用了次亞磷酸鹽作為還原劑，因此化學鍍鎳廢水中會產生大量的含次磷廢水，此廢水難以處理，必須使用湛清自主研發的次亞磷去除劑。

 二、化學鍍鎳含次磷廢水處理

 根據次磷酸根的特性，次磷酸鹽的溶解度都較高，正常條件下，次磷酸很難與重金屬直接沉淀，而通過氧化技術的原理把次磷酸根氧化為正磷酸根的思路同樣無法使用，因為芬頓氧化效率有限，只能氧化一部分次磷酸根，廢水中仍然含有大量的次磷酸根離子無法去除。

 湛清環保的次亞磷去除劑HMC-P3是一種多相無機復合鹽，專門針對電鍍廢水中的次亞磷，采用均相共沉淀技術，次亞磷去除劑能夠直接與之結合形成沉淀，通過混凝絮凝，把次亞磷去除達標。

 三、化學鍍鎳含次磷廢水處理工藝

 具體流程如下：

 1、取電鍍化學鎳次亞磷廢水

 2、調節廢水pH，加入次亞磷去除劑以及催化劑進行反應

 3、調節廢水pH，加入次亞磷絮凝劑進行絮凝反應

 4、過濾沉淀出水，測定磷含量

 根據以上步驟，結合使用湛清環保研發的藥劑——次亞磷去除劑P3，能將化學鍍鎳含次磷廢水處理達標，其中總磷能處理到0.5mg/L以下。