半導(dǎo)體導(dǎo)體硅晶無(wú)損清洗雷士超聲科技多頻率可控式超聲波清洗機(jī)
類型 超聲波冷凝槽
適用領(lǐng)域 半導(dǎo)體、導(dǎo)體、硅晶、水晶玻璃、液晶屏
槽數(shù) 1
用途 表面清潔處理
功 能 超聲波+加熱+液體循環(huán)+溢流+冷凝降溫
包 裝 工業(yè)纏繞薄膜
超聲清洗機(jī) 1臺(tái)
超聲發(fā)生器 1臺(tái)
內(nèi)槽尺寸 355×355×320 mm
槽體材質(zhì) 不銹鋼316
超聲功率 600W
超聲頻率 40KHz、80KHz、200KHz、270KHz 可切換
加熱調(diào)節(jié) 0~60℃
電器控制 PLC
概述
半導(dǎo)體行業(yè)的原材料大部分都由電子器件和硅片組成的，因?yàn)榘雽?dǎo)體外形比較復(fù)雜，孔內(nèi)小，利用超聲波清洗機(jī)的高效率和高清潔度，得益于其聲波在介質(zhì)中傳播時(shí)產(chǎn)生的穿透性和空化沖擊疚，所以很容易將帶有復(fù)雜外形，內(nèi)腔和細(xì)空清洗干凈，在超聲波作用下只需兩三分鐘即可完成，其速度比傳統(tǒng)方法可提高幾倍，甚至幾十倍，清潔度也能達(dá)到高標(biāo)準(zhǔn)，提高了對(duì)半導(dǎo)體的生產(chǎn)效率，更突出顯示了用其他處理方法難以達(dá)到或不可取代的結(jié)果
LSA-MN12四頻率半導(dǎo)體超聲波清洗機(jī)，能有效去除硅片、晶片表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破壞晶片表面特性。根據(jù)不同清洗工藝配置相應(yīng)的清洗單元，各部分有獨(dú)立控制，隨意組合，設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，凈化占地面積小，造型美觀、實(shí)用，操作符合人機(jī)工程原理。
2清洗方式
普通的清洗方法一般不能達(dá)到孔內(nèi),而孔內(nèi)芯料的反應(yīng)生成物及其他污染物會(huì)在后序工藝中會(huì)產(chǎn)生重復(fù)污染。無(wú)論是采用有機(jī)溶劑或是清洗液清洗都容易引入新的污染源,然而利用超聲波清洗技術(shù)卻可以實(shí)現(xiàn)無(wú)重復(fù)污染,而且能深入MCP孔內(nèi)的效果。對(duì)不同材料及孔徑的MCP應(yīng)采用頻率、聲強(qiáng)可調(diào)的超聲波進(jìn)行實(shí)驗(yàn),以確定實(shí)際工藝參數(shù)。對(duì)孔徑6~12μmMCP的清洗,當(dāng)媒液為水和乙醇時(shí),可采用空化閾約1/3 W/cm2,聲強(qiáng)10~20 W/cm2,頻率20~120 kHz的超聲波進(jìn)行清洗。表1是同一段不同板號(hào)的MCP采用不同頻率超聲波清洗后表觀及電性能測(cè)試結(jié)果。由檢測(cè)結(jié)果可見(jiàn),對(duì)1μm以下的小顆粒污染物,應(yīng)選用頻率40 kHz以上的超聲波進(jìn)行清洗。
3清洗溫度
在硅片的清洗過(guò)程中，清洗液的溫度是一個(gè)關(guān)鍵因素。合適的清洗溫度能夠加快油污的去除，得到非常好的清洗效果。當(dāng)硅片浸到清洗液中，硅片上的油污產(chǎn)生膨脹，油污內(nèi)部以及油污與硅片之間的作用力減弱，溫度越高，油污膨脹越大，這種作用力就越弱，表面活性劑分子越容易將油污撬離硅片表面。同時(shí)，溫度的變化可導(dǎo)致膠束本身性質(zhì)和被增溶物在膠束中溶解情況發(fā)生變化。只有溫度接近表面活性劑溶液的濁點(diǎn)溫度時(shí)，增溶能力強(qiáng)，因而清洗液的溫度設(shè)定在60℃。
4
產(chǎn)品特點(diǎn)
1、一體式設(shè)計(jì)，緊湊，操作方便；
2、采用雷士四頻超聲波裝置，對(duì)超聲波無(wú)損傷；
3、配置過(guò)濾系統(tǒng)，有效節(jié)約水源；
4、清洗架特殊材質(zhì)，避免產(chǎn)品刮花；
5、配置油水分離及過(guò)濾系統(tǒng)，提供清洗劑的利用率；
6、操作簡(jiǎn)單，具有手動(dòng)和自動(dòng)轉(zhuǎn)換功能；
7、PLC全程式控制，自動(dòng)連續(xù)步進(jìn)式清洗、干燥；
8、冷凝管整槽設(shè)計(jì)，降低清洗使產(chǎn)品溫度。
