雙管臥式燒結爐鉬絲燒結爐半導體處理燒結爐

L4811-II-2/RZQ雙工位立式真空燒結爐是為滿足半導體器件和磁性材料行業的大批量、高生產率的要求而設計的一種較先進的燒結設備，主要用于管芯和管座的燒結，也可以做擴散、退火設備用。

主要技術指標：

1工作溫度：800℃～1200℃

2單點溫度控制精度：±2℃/24h

3恒溫區長度：400mm

4最高升溫功率：22KW

5升溫時間：≤50分鐘（室溫升至1000℃)

6真空電爐加熱功率：1KW

7設備總功率：28KW

8真空室尺寸：φ350mm，高600mm

9真空度：3 x 10-3Pa

10抽真空時間：<1h（注：初始開機時間），連續工作<20min

11主機尺寸：2050 x 1050 x 2700mm（長x寬x高）

12電控箱尺寸：750 x 850 x 1800（mm）

13供電電源：三相380V

14主機重量：2000Kg高溫燒結爐、真空燒結爐、真空熱壓爐、真空工業爐、真空鉬絲爐、真空熱壓燒結爐、真空碳管爐、雙室真空快淬燒結爐、粉末冶金燒結爐、小型真空熔煉爐、真空熱處理燒結爐、真空氣氛燒結爐、工業電爐、退火爐、箱式爐、管式爐、石英管燒結爐、多用爐熱處理設備、