水鉆化鍍用純水設(shè)備水晶鍍膜去離子水設(shè)備

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創(chuàng)新水業(yè)系列純水設(shè)備/去離了氶設(shè)備在水鉆化鍍、水晶鍍膜行業(yè)大范圍 應(yīng)用： 真空鍍膜或電鍍液配置，水鉆的清洗，主要用超聲波配合高純度的去離子水清洗，以達(dá)到滿意效果。 
     
    水鉆行業(yè)用水要求： 
     
    1.水質(zhì)電阻率在15兆以上。 
     
    2.基本不含其它雜質(zhì)離子。 
     
    水鉆、水晶行業(yè)去離子水設(shè)備工藝主要有三種： 
     
    第一種、傳統(tǒng)工藝，自來水--過濾器--陽離子交換器--陰離子交換器---混床--水箱--用水點(diǎn) 
     
    此方法的優(yōu)點(diǎn)是投資少，出水水質(zhì)穩(wěn)定。缺點(diǎn)是操作復(fù)雜，樹脂需要再生，耗酸堿比較多，處理后的水質(zhì)中有機(jī)物部分顆粒雜質(zhì)不能去除。現(xiàn)在基本沒有人用這種方法了。 
     
    第二種、反滲透+混床 
     
    自來水--砂過濾器--碳過濾--軟化器（或阻垢劑）--精密過濾器--RO反滲透--混床--水箱-用水點(diǎn) 
     
    此工藝為目前最主要的工藝，以創(chuàng)新水業(yè)系列的去離子水設(shè)備為代表，廣泛應(yīng)用于水鉆等各個(gè)行業(yè)。 
     
    優(yōu)點(diǎn)是RO反滲透的應(yīng)用，去除99%以上的離子，剩余部分用混床處理，相對(duì)再生較少，操作簡(jiǎn)單，出水水質(zhì)好，一般電阻率可達(dá)15-18兆歐。 
     
    第三種、預(yù)處理--RO反滲透--EDI電離子系統(tǒng)，以創(chuàng)新水業(yè)EDI系統(tǒng)去離子水設(shè)備為代表。 
     
    優(yōu)點(diǎn)：出水水質(zhì)好，無需再生，操作簡(jiǎn)單，安全環(huán)保無污染，自動(dòng)化控制。

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