蘇州創(chuàng)新水業(yè)CX系列CEDI高純水處理設(shè)備、EDI超純水設(shè)備、工業(yè)高純水機

CEDI高純水處理設(shè)備

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一、CEDI法去離子水設(shè)備工作原理：
   EDI（Electrodeionization）是利用離子交換樹脂來去除水中的離子。在EDI設(shè)備中，進水中的各種離子通過樹脂層交換后被脫除，水得到了純化。此時是利用離子交換原理脫除水中的離子。由于膜對兩邊加有電壓，水分被電解為氫氧根和氫離子去再生樹脂，同時，被氫離子和氫氧根離子交換下的離子在電流的作用下，被遷移至濃水室而排放，從而實現(xiàn)連續(xù)再生連續(xù)使用的目的。
   1) 進水分布EDI模塊中各室。
   2) 在直流電作用下各種離子，向各自相應(yīng)電極遷移。
   3) 與混床一樣，水中的各種離子被離子交換樹脂所交換，然后被交換的離子通過各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到濃水室中。淡水室中的水流出EDI模塊（只有離子可通過離子交換膜，而水不能通過）而成淡水。
   4) 濃水室中的濃水循環(huán)。為提高和維持濃水室的電導(dǎo)，大部分濃水進行循環(huán)。 
   5) 循環(huán)的濃水需少部分排放，由進水補充。此部分排放濃水可返回至前級RO裝置，重復(fù)使用。
   6) 水分子在電壓作用下被電離為氫離子和氫氧根離子，通過各自相應(yīng)的離子交換膜遷移到樹脂層，連續(xù)再生樹脂。

二、CEDI高純水制取設(shè)備的優(yōu)點
　　連續(xù)運行，產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定；無許用酸堿再生；不會因再生而停機；節(jié)省了反洗和清洗用水；產(chǎn)水率高達(dá)95%；無再生污水，無須污水處理設(shè)施；無須酸堿儲備和稀釋設(shè)備；占地面積小；使用安全，避免工人接觸酸堿。投資僅為離子交換的30%。運行成本僅為離子交換的65%。
  1、無化學(xué)污染；
  2、可連續(xù)再生；
  3、啟動/操作方便；
  4、模塊更換方便；
  5、產(chǎn)水純度更高；
  6、回收率更高；
  7、占地面積更小；
  8、節(jié)約成本。
 
  CEDI與傳統(tǒng)離子交換混床相比最大缺點是整體成本高,因其進水水質(zhì)必須以反滲透為原水，而且EDI膜堆的成本大大高于混合交換器。

三、應(yīng)用領(lǐng)域
1. 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
2. 超純材料和超純化學(xué)試劑；
3. 實驗室和中試車間；
4. 汽車、家電表面拋光處理；
5. 其他高科技精微產(chǎn)品。
6. 電化學(xué)及介面研究用水
7. 有機物分析用水
8. 高精密光學(xué)鏡片沖洗用水
9. 環(huán)境、環(huán)保實驗分析用水
10. 高分子實驗用水
11. 微電子行業(yè)各種部件的清洗用水
12. 精密電鍍用水
13. 大專院校、工礦企業(yè)實驗用水
14.電池補充用水，用于叉車電瓶加水，汽車電瓶加水；
15.鋰電池行業(yè)，節(jié)能燈行業(yè)使用。

四、組件的進水要求及性能參數(shù)

進水總鹽量（CaCO3計） <25ppm或50μs/cm TOC <0.5ppm
PH值 5.0～9.0
余氯 <0.05ppm
硬度（CaCO3計） <2.0ppm
Fe、Mn、H2S <0.01ppm
可溶硅 <0.5ppm 工作溫度 5～40℃
工作壓力 1.0～2.0bar 工作壓差 0.4～1.0bar
水利用率 >95%
產(chǎn)水水質(zhì) >15MΩ.cm
蘇州創(chuàng)新水處理公司提供1-200T/H EDI高純水設(shè)備

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