1200℃三溫區真空管式氣相沉積爐

CNT真空管式氣相沉積爐主要為應用在半導體,石墨烯、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域。
※產品結構：   

1、可通入多種氣體，配100ml混氣罐;

2、采用三溫區獨立控溫，可實現不同溫度段同時工作；

3、爐體采用不銹鋼密封法蘭（鉸鏈結構），耐高溫、耐腐蝕；
4、保護管采用高純石英管或剛玉管 ，氣管采用卡套或VCR接口，安裝方便；

5、爐體采用雙層空氣隔熱技術，配有自動冷卻風扇，降低爐體外殼溫度；

6、控制系統采用進口40段程序控溫，控溫精度±1℃，移相觸發、可控硅控制；

7、真空系統6.67pa(機械泵)或6.67pa×10-3pa(擴散泵機組)

8、選配無紙記錄儀，記錄、存儲、顯示當前或歷史溫度曲線，也可通過U盤轉存入電腦。

8、選配西尼特智能溫控軟件，通過電腦進行全程監控和操作；