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當前位置: 首頁 » 供應產品 » 鑄造設備/工業爐窯/熱處理設備 » 熱處理設備 »1200℃井式氣相沉積爐

1200℃井式氣相沉積爐

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產品價格: 面議/人民幣 
最后更新: 2014-05-24 14:22:57
產品產地: 北京
發貨地: 北京 (發貨期:當天內發貨)
供應數量: 不限
有效期: 長期有效
最少起訂: 1
瀏覽次數: 563
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  • 公司基本資料信息
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    產品詳細說明
    產品用途:

    CNT生產的CVD(真空化學氣相沉積爐)是一種用于在基片上生成高質量TiCSiCSiO2Si3N4 專用設備。淀積溫度能夠較高 (1001200℃可調 ) ,它已成為機械制造工業、冶金工業、光學工業、半導體工業等領域微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。
     
    產品結構:

    CNT公司CVD設備主要由全真空專用不銹鋼腔體,分子泵或擴散泵高真空系統,電源,生長機體載體及溫控系統,獨立排氣和生長壓力調節系統,冷卻循環水輔助設備等組成。整機結構緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設備控制系統采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設備可用于制作SiO2Si3N4、非晶SiH、多晶SiSiCWTi-SiGaAsGaSb等介電、半導體及金屬膜等。


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