日本光弛otfc1800鍍膜機射頻離子蒸發電鍍機雙光電子束真空電鍍膜機

　　日本光弛otfc1800鍍膜機 射頻離子蒸發電鍍機 雙光電子束真空電鍍膜機

　　機械特點：

　　真空室尺寸：Φ600-1800mm

　　60點/80點式光學膜厚監控

　　使用均勻分布的高離子電流密度的離子源

　　搭載雙電子槍，多點和環型坩堝可鍍100層以上

　　利用自動蒸鍍控制系統實現全自動蒸鍍過程

　　工件架可選擇鐘罩式或行星式

　　排氣系統可選擇擴散泵 低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵

　　設備尺寸：

　　設備型號 OTFC-1800CBI/DBI

　　真空室SUS304, φ1800mm×1920mm (H)

　　工件架φ1600mm

　　工件架轉速10rpm to 30rpm(可變)

　　光學膜厚控制HOM2-R-VIS350A光學膜厚監控儀

　　波長范圍：350nm to 1100nm

　　反射式或透射式

　　石英晶振膜厚計XTC/3 6點式石英晶體傳感器

　　蒸發源電子槍2套

　　離子源23cmRF離子源

　　排氣系統機械泵 2個擴散泵 Polycold（或2個冷凝泵）

　　機械性能：

　　達到壓力7.0×10-5 Pa以下

　　排氣時間20分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)

　　基板溫度：350℃

　　設備尺寸約5700mm(W)×7700mm(D)×4000mm(H)

　　工作條件：

　　電源3相, 200V, 50/60Hz,約150kVA

　　水流量180升/分以上

　　空氣壓力0.5MPa以上

　　重量約11200kg