設備尺寸：

設備名稱 OTFC-1550CBI/DBI

真空室 SUS304, φ1550mm×1800mm (H)

工件架 φ1400mm

工件架轉速 10rpm to 30rpm(可變)

光學膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學膜厚監控儀

波長范圍：350nm to 1100nm

反射式/透射式

水晶式膜厚計 XTC/3+6點式水晶傳感器

蒸發源 電子槍2套

離子源 17cmRF離子源

機械性能：

排氣系統 機械泵+2個擴散泵+Polycold（或2個冷凝泵）

達到壓力 7.0×10-5 Pa 以下

排氣時間 15分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)

基板溫度 ：350℃

工作條件：

設備尺寸 約5500mm(W)×7200mm(D)×3700mm(H)

電源 3相,200v,50/60Hz, 約120KVA

水流量 180升/分以上

空氣壓力 0.5MPa以上

重量 約10000kg

適用于L ED用光學薄膜、ITO膜、 反射防止膜、超多層薄膜等各種光學薄膜形成裝置