泊頭鼎科DK-UV-10000光氧催化原理

光氧凈化器的說明書：

光催化凈化技術主要是利用光催化劑二氧化欽(T'02)吸收外界輻射的光能，使其直接轉變為化學能。當能量大于Ti02禁帶寬度的光照射半導體時，光激發電子躍遷到導帶，形成導帶電子(e-)，同時在價帶留下空穴階(h+)。由于半導體能帶的不連續性，電子和空穴的壽命較長，它們能夠在電場作用下或通過擴散的方式運動，與吸附在半導體催化劑粒子表面上的物質發生氧化還原反應，或者被表面晶格缺陷俘獲。空穴和電子在催化劑粒子內部或表面也能直接復合，空穴能夠同吸附在催化劑粒子表面的月口一或HZO發生作用生成經基自由基HO "， HO.是一種活性很高的粒子，能夠無選擇的氧化多種有機物并使之礦化。

光氧凈化器的說明書：

由于光催化還屬于一種新興的技術，有很多因素還需要額外考慮，諸如納米光催化劑的制備技術、納米光催化劑的高活性和高壽命技術、納米光催化劑的固載化技術和納米光催化劑反應的設計技術，這些因素的實現勢必會使得凈化器價格攀升，從而影響推廣。然而該技術最大的不足在于，從利用太陽光效率的角度看，半導體的光吸收波長范圍狹窄，主要在紫外區，利用太陽光的比例低：光生載流子的復合率很高，導致量子效率較低。

光氧凈化器的說明書：

一、高效除惡臭：能高效去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率最高可達99%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）．

二、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。，

三、適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。

四、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能），設備風阻極低<50pa,可節約大量排風動力能耗。

五、無需預處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等,設備工作環境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-13之間均可正常工作。

六、設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風量。