深圳鼎盛研磨 DS-098A平面研磨劑精磨液

公司基本資料信息

產品詳細說明

????產品闡述：
1、高拋光速率，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子高速拋光的目的高純度（含量小于50ppb）
2、有效減小對電子類產品的沾污等材料的膠體粒子，不會對加工工件造成物理損傷，達到高水平加工

應用范圍：

廣泛應用于你納米級的化學機械拋光，如：硅片、化合晶體、精密光學器件，硬盤盤片，手機配件，電腦配件，顯示屏等拋光加工

使用注意事項：

1、產品在貯存一段時間后，會逐漸增稠甚至凍狀，所以在使用時建議以水和溶液1:1的比例兌稀，并攪拌均勻
2、再添加時還應注意體系的粘度，避免由于基料粘度太低或剪切速率低而導致的重復問題

技術指導：

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