石家莊設計半導體廠廢氣治理方案

A、工藝介紹

低溫等離子體是繼固態、液態、氣態之后的物質第四態，當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產生包括電子、多種離子、原子和自由基在內的混合體，在放電的過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現低溫狀態，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物的原理是利用這些高能電子、自由基等活性粒子的協同作用下，轟擊廢氣污染物分子，使其電離、解離、激發，從大分子污染物轉變成小分子安全物質，并發生后續的多種物理、化學反應以達到降解污染物的目的。

B、該類工藝主要流程圖如下所示：

C、低溫等離子工藝裝置性能特點及應用：

低溫等離子裝置依靠高壓放電產生包括電子、離子、自由基等在內的多種高能粒子，這些高能粒子與廢氣中的污染物質發生反應，最終轉化為CO2和H2O等物質，從而達到凈化廢氣的目的。高壓放電產生的高能粒子能量高、數量多，對污染物的脫除具有廣譜性，可以與廢氣中幾乎所有的污染物發生反應，達到凈化廢氣的目的，相比于其他工藝具有自身獨特的優勢。

低溫等離子工藝主要適用于制藥、印染、制造、化工、化纖等行業，這些行業的工廠在運作過程中會產生大量揮發性有機污染物（VOCs）。還可應用于包裝、紡織、塑料制品、汽車制造、電子設備制造、家電制造、計算機制造、手機制造、生物材料、衛生材料、醫療器皿、殺菌消毒、環保設備、石油天然氣管道、供暖管道、化工、半導體、航空航天等行業中。