CVD PECVD 氣相沉積爐

產(chǎn)品價(jià)格：	面議/人民幣
最后更新：	2012-10-30 08:25:11
產(chǎn)品產(chǎn)地：	北京
發(fā)貨地：	北京 (發(fā)貨期：當(dāng)天內(nèi)發(fā)貨)
供應(yīng)數(shù)量：	不限
有效期：	長期有效
最少起訂：	1
瀏覽次數(shù)：	741

公司基本資料信息

西尼特（北京）電爐有限公司
龐通先生經(jīng)理
會(huì)員[試用會(huì)員產(chǎn)品]
郵件cntdl@sina.com
手機(jī)18610138965
電話
傳真
地址北京市朝陽區(qū)五里橋二街1號(hào)院

產(chǎn)品詳細(xì)說明

※產(chǎn)品描述：

CNT公司PECVD設(shè)備主要由全真空專用不銹鋼腔體，分子泵高真空系統(tǒng)，電源，生長機(jī)體載體及溫控系統(tǒng)，獨(dú)立排氣和生長壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)，冷卻循環(huán)水輔助設(shè)備等組成。整機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設(shè)備控制系統(tǒng)采用邏輯按鈕手動(dòng)控制與工控機(jī)自控控制可選。實(shí)現(xiàn)真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設(shè)備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導(dǎo)體及金屬膜等。

※技術(shù)指標(biāo)：

參數(shù) 名稱	單位	配置
沉積類型		二氧化硅，氮化硅，類金剛石等
電源		射頻電源，帶正向功率和反射功率計(jì)指示，帶匹配器
加熱系統(tǒng)		平板式雙反應(yīng)室系統(tǒng)，帶加溫和勻氣系統(tǒng)
工作溫度	℃	100~600℃
基片臺(tái)尺寸	(φ×H)mm	1英寸、二英寸、三英寸、四英寸
基片臺(tái)轉(zhuǎn)速		轉(zhuǎn)速0-20RPM
控溫精度	℃	±1
極限真空	pa	8.0×10-5
密封系統(tǒng)		磁流體密封
水冷、氣路系統(tǒng)		冷卻水循環(huán)機(jī)、無噪聲氣泵
報(bào)警及保護(hù)		對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警及相應(yīng)保護(hù)措施
真空系統(tǒng) （選配）	真空系列	單級(jí)機(jī)械泵、擴(kuò)散泵機(jī)組、分子泵
	工作腔體	不銹鋼
	氣氛系統(tǒng)	浮子流量計(jì)、進(jìn)口、國產(chǎn)質(zhì)量流量計(jì)
	記錄裝置	進(jìn)口、國產(chǎn)無紙記錄儀
備注：西尼特可根據(jù)閣下要求提供各種非標(biāo)產(chǎn)品的設(shè)計(jì)制造，歡迎來函、來電咨詢！ 24小時(shí)熱線：400-668-6260 18610138965 Fax:010-51418223 cntdl@sina.com http://www.cimitdl.com

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