顯影清洗機

設備名稱：

半自動顯影清洗機

適應工件：

2～8寸晶圓片清洗

批量產能：

8寸25PCS/批

工藝流程：

QDR←顯影→QDR←顯影→QDR

工藝槽功能：

循環過濾+加熱冷卻+上下抖動+硅片滾動

主要材料：

金屬骨架+PVC/PPW殼板，槽體采用PPN/PVDF材質

運送方式：

手動傳送

節拍時間：

依工藝5～15min可調

其他說明：

此設備可根據客戶要求定制全自動顯影機